Nová výrobní základna VETEK pro výrobu polovodičů vstupuje do fáze výstavby čistých prostor

Zhejiang, Čína – červen 2026— Výstavba nové výrobní základny VETEK dosáhla další důležité fáze. Po dokončení hlavní konstrukce budovy se nyní práce přesunuly na instalaci zařízení pro čisté prostory na polovodičové úrovni.

Na místě projektu se současně instalují dekorace interiéru, ventilační systémy, zařízení na filtraci vzduchu a inženýrské sítě. Několik oblastí již vstoupilo do fáze přípravy zařízení.

Práce v čistých prostorách pokračují podle plánu

Nové zařízení je určeno pro výrobu polovodičových materiálů a povlakových produktů. Ve srovnání se současnou továrnou bude nový areál poskytovat více výrobních prostor a lepší řízení toku procesů.

Prostor čistých prostor bude sloužit pro výrobu nátěrů, přesné obrábění, čištění, kontrolu a balení. Připravují se i vyhrazené plochy pro produkty s vyššími požadavky na čistotu.

Stavební týmy v současné době provádějí montáž stropů, úpravu podlah a integraci podpůrného systému. Denní práce probíhají podle harmonogramu projektu.

Převod zařízení se očekává do konce roku

Příprava na stěhování zařízení již začala.

Stávající výrobní zařízení se do nového zařízení přesune postupně po dokončení instalace čistého prostoru. Součástí plánu stěhování je i kalibrace zařízení, zkušební výroba a ověřování procesů.

Na základě současného postupu výstavby se předpokládá dokončení přesunu hlavních výrobních zařízení do konce letošního roku.

Po přestěhování bude VETEK pokračovat ve výrobě produktů včetněCVD SiC povlaky, TaC povlaky, PyC povlaky, Pevné komponenty SiCavysoce čisté grafitové materiálypro polovodičové aplikace.

Pro tým VETEK není nová továrna jen větší budovou. Jde o výrobní platformu navrženou pro další fázi výroby polovodičových materiálů s větším prostorem pro vývoj procesů, rozšiřování zařízení a budoucí růst kapacity.