QR kód
produkty
Kontaktujte nás


Fax
+86-579-87223657

E-mailem

Adresa
Wangda Road, Ziyang Street, Wuyi County, Jinhua City, Zhejiang Province, Čína
Od 31. srpna do 2. září 2026 se ve Wuxi, Jiangsu, Čína, konala 14. výstava polovodičových zařízení, základních komponent a materiálů (CSEAC 2026).Vetek Semiconductorse zúčastnila akce a představila své pokročilé polovodičové materiály, technologie CVD povlaků a přesné součástky a zároveň se zapojila do spolupráce se zákazníky, partnery a profesionály z Číny a zámoří.
![]()
CSEAC jako jedna z důležitých odborných výstav zaměřených na polovodičová zařízení, materiály a základní komponenty v Číně poskytuje účinnou platformu pro technickou výměnu, spolupráci dodavatelského řetězce a rozvoj podnikání v celém odvětví výroby polovodičů.
Pro Vetek Semiconductor byl CSEAC 2026 nejen příležitostí k předvedení produktů, ale také důležitou příležitostí k lepšímu pochopení požadavků zákazníků, diskusi o nových technologiích a posílení dlouhodobé spolupráce s průmyslovými partnery.
![]()
Během výstavy Vetek Semiconductor zdůraznil své schopnosti v oblasti polovodičových materiálů pro tepelné pole, CVD povlaků a přesných součástek.
Zahrnuty klíčové oblasti produktů:
Tyto materiály a komponenty jsou široce používány v polovodičových procesech, jako je křemíková epitaxe, SiC epitaxe, MOCVD, růst krystalů SiC, RTP/RTA, oxidace a difúze, ICP leptání a další vysokoteplotní výrobní prostředí.
Mezi nimi upoutaly zvláštní pozornost návštěvníků grafitové susceptory potažené SiC a TaC, epitaxní komponenty, MOCVD susceptory a komponenty tepelného pole pro růst krystalů SiC.
Technické diskuse na stánku Vetek přesahovaly specifikace jednotlivých produktů.
Zákazníci a inženýři si vyměnili názory na životnost povlaku, kontaminaci částicemi, tepelné namáhání, rozměrovou stabilitu, rovinnost susceptoru, epitaxní rovnoměrnost a odolnost vůči vysokoteplotnímu korozivnímu prostředí.
Například pro epitaxní aplikace musí grafitové susceptory poskytovat nejen mechanickou podporu plátku, ale také stabilní tepelné a proudové podmínky. Geometrie kapsy, rovinnost, rovnoměrnost povlaku a vlastnosti materiálu mohou ovlivnit rozložení teploty plátku a konzistenci nanášení.
Vetek Semiconductor proto nadále rozvíjí své schopnosti od konvenční výroby přesných součástek k integrovanému modelu kombinujícímu materiálové inženýrství, CNC obrábění, čištění, CVD SiC/TaC povlakování, kontrolu kvality a optimalizaci procesů.
Tento přístup umožňuje společnosti Vetek užší spolupráci s výrobci polovodičových zařízení a procesními zákazníky během vývoje komponent, ověřování prototypů a optimalizace hromadné výroby.
![]()
CSEAC 2026 také poskytl společnosti Vetek Semiconductor důležitou příležitost setkat se se stávajícími partnery a potenciálními zákazníky.
Během výstavy uspořádal tým Vetek řadu obchodních a technických schůzek týkajících se probíhajících projektů, ověřování nových materiálů, lokalizace komponent, zlepšování životnosti produktu a budoucích příležitostí společného vývoje.
V průběhu akce došlo k dalšímu pokroku v několika projektech spolupráce, projednaly se také nové zakázky a navazující plány spolupráce.
Dodavatelský řetězec polovodičů se stále více vzdaluje od nákupu jednoduchých komponentů směrem k hlubší inženýrské spolupráci. Zákazníci očekávají, že se dodavatelé budou dříve podílet na výběru materiálů, návrhu struktury, testování, hodnocení procesů a neustálém zlepšování produktů.
Tento trend úzce souvisí s vývojovou strategií společnosti Vetek Semiconductor. Výměna nápadů s mezinárodními odborníky v oboruCSEAC je také důležitou platformou pro sledování vznikajících polovodičových technologií a globálních průmyslových trendů.
Během výstavy komunikoval tým Vetek se společnostmi zabývajícími se polovodičovými zařízeními, dodavateli materiálů, inženýry a průmyslovými profesionály z různých zemí a regionů.
Diskuse se týkala témat včetně křemíku, výroby SiC a GaN, epitaxe SiC, pokročilého návrhu tepelného pole MOCVD, polovodičových materiálů nové generace a řešení povlaků s delší životností.
Vzhledem k tomu, že se polovodičová zařízení třetí generace neustále posouvají směrem k vyššímu napětí, vyšší provozní teplotě a vyšší hustotě výkonu, musí součásti polovodičových zařízení spolehlivě fungovat ve stále náročnějších prostředích.
Budoucí vývoj materiálů se proto zaměří nejen na individuální specifikace, ale také na vyšší čistotu, zlepšenou tepelnou stabilitu, nižší tvorbu částic, delší životnost a lepší konzistenci mezi jednotlivými šaržemi.
Tyto oblasti zůstanou pro Vetek Semiconductor klíčovými prioritami.
![]()
CSEAC 2026 skončil, ale diskuse a spolupráce zahájené během výstavy budou pokračovat.
Každá technická otázka vznesená zákazníky, každá diskuse s partnery a každá výměna názorů s mezinárodními profesionály z oboru poskytuje cenný vstup pro budoucí vývoj produktů a zlepšování technologií.
Vetek Semiconductor bude pokračovat v investicích do CVD SiC povlaku, CVD TaC povlaku, vysoce čistého grafitu, pevného SiC, SiC keramiky, uhlíkových/uhlíkových kompozitů a polovodičových křemenných komponent.
Společnost zároveň dále posílí své schopnosti v oblasti vysoce čistých materiálů, přesného obrábění, CVD povlaků a zákaznických inženýrských řešení.
Díky úzké spolupráci s výrobci polovodičových zařízení, výrobci waferů, výzkumnými institucemi a průmyslovými partnery po celém světě se Vetek Semiconductor snaží dodávat spolehlivější materiály a komponenty pro pokročilou výrobu polovodičů.
CSEAC 2026 znamená nejen završení další úspěšné výstavy, ale také začátek nové spolupráce a nových příležitostí.
Společnost Vetek Semiconductor se těší na spolupráci s globálními partnery v oblasti polovodičů s cílem dosáhnout stabilnější, efektivnější a spolehlivější výroby polovodičů.
Vetek Semiconductor— Pokročilé materiály pro pokročilou výrobu polovodičů.
+86-579-87223657
Wangda Road, Ziyang Street, Wuyi County, Jinhua City, Zhejiang Province, Čína
Copyright © 2024 WuYi TianYao New Material Tech.Co., Ltd. Všechna práva vyhrazena.
Links | Sitemap | RSS | XML | Zásady ochrany osobních údajů |