VeTek Semiconductor nabízí komplexní řadu polovodičové keramiky pro vylepšené zpracování. Naše povlaky z karbidu křemíku jsou známé svou hustotou, vysokou teplotní odolností a chemickou odolností, díky čemuž jsou ideální pro různé fáze výroby polovodičů. Tyto povlaky se používají při zpracování a výrobě polovodičových destiček, což zajišťuje účinnost a spolehlivost.
Kromě toho nabízíme další polovodičovou keramiku:
Křemen: Křemen vykazuje vynikající stabilitu při vysokých teplotách, chemickou inertnost a optickou průhlednost. Nachází široké uplatnění ve výrobě polovodičů, včetně fotolitografie, chemické depozice z plynné fáze (CVD) a fyzikální depozice z plynné fáze (PVD). Křemenné substráty, trubky a okna hrají kritickou roli v procesu výroby polovodičů.
Keramika z oxidu hlinitého: Keramika z oxidu hlinitého nabízí vynikající izolační vlastnosti, stabilitu při vysokých teplotách a chemickou inertnost. Běžně se používají v polovodičových zařízeních pro součásti, jako jsou izolátory, těsnění, obaly a substráty. Vysoká izolace a odolnost vůči vysokým teplotám z keramiky z oxidu hlinitého z nich činí životně důležité materiály při výrobě polovodičů.
Keramika z nitridu boru: Keramika z nitridu boru vykazuje vynikající tepelnou vodivost, vysokou tvrdost a chemickou inertnost. Jsou široce používány ve vysokoteplotních prostředích při výrobě polovodičů, jako je žíhání, tepelné zpracování a balení. Keramika z nitridu boru se běžně používá pro výrobu přípravků, topných těles, chladičů a substrátů.
Oxid zirkoničitý: Zirkonium je vysoce pevný, vysoce tvrdý a žáruvzdorný keramický materiál. Má výjimečnou chemickou stabilitu a dobré izolační vlastnosti. Při výrobě polovodičů se oxid zirkoničitý často používá pro výrobu izolačních součástí, oken a senzorů v prostředí s vysokou teplotou. Díky své vynikající tepelné vodivosti a nízkým dielektrickým ztrátám je oxid zirkoničitý také široce používán v RF a mikrovlnných zařízeních.
Nitrid křemíku: Nitrid křemíku je keramický materiál odolný vůči vysokým teplotám a korozi s vynikající mechanickou pevností a tepelnou vodivostí. Běžně se používá při výrobě polovodičů pro kritické součásti, jako je tenkovrstvé zapouzdření, izolační vrstvy, senzory a distanční vložky. Nitrid křemíku vykazuje vynikající izolační vlastnosti a chemickou stabilitu, což umožňuje stabilní provoz ve vysokoteplotních a drsných prostředích. Navíc jeho nízká dielektrická konstanta a nízké dielektrické ztráty z něj činí ideální volbu pro vysokofrekvenční elektronická zařízení a mikroelektronické obaly.
Ve společnosti VeTek Semiconductor jsme odhodláni poskytovat vysoce kvalitní další polovodičovou keramiku, která splňuje náročné požadavky průmyslu.
Klíčové vlastnosti
● Komplexní materiálové portfolio: křemen, oxid hlinitý (Al₂O₃), nitrid boru (BN), oxid zirkoničitý (ZrO₂) a nitrid křemíku (Si₃N₄).
● Vysoká čistota a nízká kontaminace vhodná pro procesní prostředí polovodičové kvality.
● Vynikající stabilita při vysokých teplotách, chemická inertnost a přizpůsobené tepelné/elektrické vlastnosti pro každý materiál.
● Možnost přesného obrábění pro lodě, trubky, okna, štíty, izolátory, přípravky, senzory a zakázkové díly.
● Osvědčené aplikace napříč CVD/PVD, fotolitografií, difúzí, žíháním, balením a RF/mikrovlnnými zařízeními.
● ISO9001 certifikovaná kontrola kvality a podpora přizpůsobení, aby odpovídala specifickým požadavkům na zařízení a procesy.
Aplikace
Pro splnění různorodých potřeb polovodičových procesů nabízí VeTek cílené produkty Other Semiconductor Ceramics. Následující tabulka je klasifikuje podle hlavních materiálů a oblastí použití:
| Materiál / pole |
Typické produkty |
Popis aplikace |
| Křemen |
Lodě z křemenných plátků, neprůhledné křemenné štíty/okenice, krycí vršky, kelímky, trubky, okna |
Vysokoteplotní stabilita, chemická inertnost a optická transparentnost pro fotolitografii, CVD, PVD, difúzi, oxidaci, žíhání a ochranu komory MOCVD. |
| Oxid hlinitý (Al₂O3) |
Izolátory, těsnění, díly obalů, substráty |
Vynikající izolace, vysoká teplotní stabilita a chemická inertnost pro součásti polovodičových zařízení, které vyžadují elektrickou izolaci a tepelnou odolnost. |
| Nitrid boru (BN) |
Svítidla, topná tělesa, chladiče, substráty |
Vynikající tepelná vodivost, vysoká tvrdost a chemická inertnost pro žíhání, tepelné zpracování a balení ve vysokoteplotních polovodičových procesech. |
| oxid zirkoničitý (ZrO₂) |
Izolační prvky, okna, čidla |
Vysoká pevnost, tvrdost a tepelná odolnost s dobrou izolací; používá se ve vysokoteplotních prostředích a RF/mikrovlnných zařízeních kvůli nízkým dielektrickým ztrátám. |
| Nitrid křemíku (Si₃N₄) |
Tenkovrstvé zapouzdření, izolační vrstvy, senzory, spacery |
Odolnost vůči vysokým teplotám a korozi s vynikající mechanickou pevností; ideální pro vysokofrekvenční zařízení a mikroelektronické obaly (nízká dielektrická konstanta/ztráta). |
Podrobnější řešení přizpůsobení procesů naleznete v částiPolovodičový křemensouvisející stránky.
Jako profesionální výrobce a dodavatel Advance Ceramics v Číně máme vlastní továrnu. Ať už potřebujete přizpůsobené služby, které splňují specifické potřeby vašeho regionu, nebo si chcete koupit pokročilou a odolnou další polovodičovou keramiku vyrobenou v Číně, můžetezanechte nám zprávu.
