Služba podpory

VeTek Semiconductor dodává vysoce kvalitní monokrystalické destičky a substráty z nitridu hliníku (AlN) pro polovodičová zařízení nové generace s ultra širokým pásmovým odstupem. S ultra širokým pásmovým odstupem přibližně 6,2 eV, vynikající tepelnou vodivostí, výjimečnou elektrickou izolací a vynikající shodou mřížky a tepelné expanze s GaN jsou AlN wafery ideální pro vysoce výkonná RF zařízení, vysokonapěťovou výkonovou elektroniku a optoelektroniku hlubokého ultrafialového záření (DUV).

VETEK Professional Cleaning Service for CVD SiC Coated Graphite Parts je specializovaná technická služba navržená pro susceptory zařízení Aixtron / Veeco MOCVD a grafitové komponenty používané v epitaxních procesech GaN / AlN / AlGaN. Náš patentovaný proces čištění důkladně eliminuje efekt povrchové paměti, obnovuje stabilní proudění plynu v reaktoru a přísně chrání 100 µm CVD SiC povlak s absolutně nulovou ztrátou tloušťky a nulovými zbytky kovu.

Vzhledem k tomu, že poptávka po vysoce citlivých a nízkoenergetických snímačích MEMS roste s expanzí 5G komunikace, přesných lékařských zařízení a chytrých nositelných zařízení, naše PZT na Si/SOI waferech poskytuje kritické materiálové řešení. Využitím pokročilých procesů nanášení tenkých vrstev, jako je Sol-gel nebo naprašování, dosahujeme výjimečné konzistence a vynikajícího piezoelektrického výkonu na křemíkových substrátech. Tyto destičky slouží jako základní jádro pro elektromechanickou přeměnu energie.

Růst krystalů karbidu křemíku je základním procesem při výrobě vysoce výkonných polovodičových součástek. Stabilita, přesnost a kompatibilita zařízení pro růst krystalů přímo určují kvalitu a výtěžnost ingotů karbidu křemíku. Na základě charakteristik technologie Physical Vapor Transport (PVT) vyvinula společnost Veteksemi odporovou ohřívací pec pro růst krystalů karbidu křemíku, která umožňuje stabilní růst 6palcových, 8palcových a 12palcových krystalů karbidu křemíku s plnou kompatibilitou s vodivými, poloizolačními a materiálovými systémy typu N. Přesným řízením teploty, tlaku a výkonu účinně snižuje defekty krystalů, jako je EPD (Etch Pit Density) a BPD (Basal Plane Dislocation), přičemž se vyznačuje nízkou spotřebou energie a kompaktním designem, který splňuje vysoké standardy průmyslové velkovýroby.

Leštící kaše CMP (Chemical Mechanical Polishing Slurry) je vysoce výkonný materiál používaný při výrobě polovodičů a přesném zpracování materiálů. Jeho hlavní funkcí je dosažení jemné rovinnosti a leštění povrchu materiálu za synergického účinku chemické koroze a mechanického broušení, aby byly splněny požadavky na rovinnost a kvalitu povrchu na nano úrovni. Těšíme se na vaši další konzultaci.

Jako přední čínští výrobci a dodavatelé destiček SIC jsou vetek Semiconductor CVD SiC Coating Coating Dummy Wafer specializovaným nástrojem ve výrobě polovodičů, který se používá hlavně za účelem testování křemíkových destiček a procesu testování oplatků. Vaše další dotazy jsou vítány.