produkty
Vysoce čistý neprůhledný křemenný štít a závěrka pro MOCVD
  • Vysoce čistý neprůhledný křemenný štít a závěrka pro MOCVDVysoce čistý neprůhledný křemenný štít a závěrka pro MOCVD

Vysoce čistý neprůhledný křemenný štít a závěrka pro MOCVD

Prvořadé jsou vysokoteplotní a chemicky reaktivní prostředí MOCVD, ochrana reakční komory a přesnost řízení procesu. VETEK poskytuje prémiové neprůhledné (Mléčně bílé) křemenné komponenty, speciálně navržené tak, aby fungovaly jako „čistý prostor“ a „přesná brána“ ve vašem polovodičovém zařízení. Tyto komponenty nabízejí nákladově efektivní a přitom vysoce výkonné řešení pro řízení tepelného záření a prevenci kontaminace.

1. Technické specifikace


Poskytujeme vysoce přesné obrábění na základě vašich technických výkresů, abychom zajistili dokonalé přizpůsobení vašim konkrétním modelům zařízení.


Technická specifikace
Referenční hodnota (neprůhledný křemen)
Typ materiálu
Vysoce čistý neprůhledný (mléčně bílý) křemen
Primární výhoda
Vysoká hustota mikrobublin pro infračervený rozptyl
Provozní teplota
Vhodné pro prostředí >1000°C
Chemická stabilita
Odolné vůči TMGa, AsH₃ a standardním čisticím kyselinám
Přizpůsobení
K dispozici pro složité struktury disků, štítů a závěrek
Technická specifikace
Referenční hodnota (neprůhledný křemen)
Typ materiálu
Vysoce čistý neprůhledný (mléčně bílý) křemen
Primární výhoda
Vysoká hustota mikrobublin pro infračervený rozptyl
Provozní teplota
Vhodné pro prostředí >1000°C



2. Základní aplikační pole


Ochrana procesu MOCVD: Slouží jako základní vnitřní štíty/vložky pro ochranu reakčního prostředí.

Polovodičová epitaxe: Používá se jako vysoce přesné uzávěry pro stabilizaci průtoku a teploty během růstu tenké vrstvy.

Wide-Bandgap Semiconductor Manufacturing: Kompatibilní s prostředími s vysokou poptávkou pro GaN a další pokročilé materiály.


Opaque Quartz Shield & Shutter For MOCVD


3. Proč zvolit řešení VETEK Quartz Solutions?


Špičkové řízení tepelného záření: Náš mléčně bílý křemen obsahuje vysokou hustotu mikrobublin, které účinně rozptylují a blokují vysokoteplotní tepelné záření (>1000°C). Absorbuje viditelné a blízké infračervené světlo z topných těles a přeměňuje je na vzdálené infračervené záření, čímž zajišťuje vysoce rovnoměrné zahřívání.
Kontrola kontaminace a snadná údržba: Jako obětní nebo vyměnitelná vnitřní vložka udržuje Quartz Shield reakční komoru čistou tím, že zabraňuje usazování vedlejších produktů na drahých stěnách komory a ohřívačích. Tyto části lze regenerovat mokrým čištěním (jako jsou roztoky SPM+DHF) nebo snadno vyměnit, aby se zajistila vysoká výtěžnost plátků.
Extrémní chemická odolnost: Křemen VETEK je navržen tak, aby vydržel časté tepelné cykly a odolával korozi způsobené organickými kovovými látkami (jako TMGa) a hydridy (jako AsH₃).
Přesné řízení procesu: Naše křemenné okenice si zachovávají vysokou rozměrovou stabilitu při infračerveném nebo vláknovém ohřevu. Jejich nízká tepelná setrvačnost umožňuje rychlou mechanickou odezvu, umožňuje přesné řízení růstu na "atomové úrovni" a zabraňuje křížové kontaminaci během přepínání více plátků nebo více procesů.
Nákladově efektivní alternativa: Pro projekty s přísnými rozpočtovými požadavky poskytují naše křemenné produkty spolehlivý vstupní bod ve srovnání s potaženým grafitem a nabízejí základní ochranu a funkčnost pro systémy MOCVD.



Hot Tags: Vysoce čistý neprůhledný křemenný štít a závěrka pro MOCVD | Vetek Semiconductor
Odeslat dotaz
Kontaktní informace
Máte-li dotazy ohledně povlaku karbidu křemíku, povlaku karbidu tantalu, speciálního grafitu nebo ceníku, zanechte nám svůj e-mail a my se vám do 24 hodin ozveme.
X
Používáme cookies, abychom vám nabídli lepší zážitek z prohlížení, analyzovali návštěvnost webu a přizpůsobili obsah. Používáním tohoto webu souhlasíte s naším používáním souborů cookie. Zásady ochrany osobních údajů
Odmítnout Přijmout