Ald fúzovaný křemenný podstavec

VETEK Semiconductor Ald fúzovaný křemenný podstavec hraje klíčovou roli ve výrobním procesu polovodiče jako podpůrné struktury proKřemenná loď, který se používá k drženíoplatka. Fused Quartz podstavec pomáhá dosáhnout jednotné depozice filmu udržováním stabilní teploty, která přímo ovlivňuje výkon a spolehlivost polovodičových zařízení. Kromě toho křemenný podstavec zajišťuje jednotné rozdělení tepla a světla v procesní komoře, čímž se zlepšuje celkovou kvalitu procesu depozice.

ALD Fused Quartz podstavec materiálu výhody

Odolnost vůči vysokým teplotám: Změkčující bod fúzovaného křemenného podstavce je až asi 1730 ° C a vydrží vysokoteplotní provoz 1100 ° C až 1250 ° C po dlouhou dobu a může být vystaven extrémní teplotní prostředí až do 1450 ° C až do 1450 ° C na krátkou dobu.

Vynikající odolnost proti korozi: Fused Quartz je vysoce chemicky inertní až téměř všechny kyseliny kromě kyseliny hydrofluorové. Jeho odolnost proti kyselině je 30krát vyšší než keramika a 150krát vyšší než nerezová ocel. Fused Quartz je chemicky bezkonkurenční při vysokých teplotách, což z něj činí ideální materiál pro komplexní chemické procesy.

Tepelná stabilita: Klíčovou vlastností materiálu Fused Quartz Pedestal je jeho extrémně nízký koeficient tepelné roztažnosti. To znamená, že snadno zvládne dramatické výkyvy teplot bez praskání. Například tavený křemenný křemen lze rychle zahřát na 1100 °C a ponořit přímo do studené vody bez poškození, což je důležitá vlastnost ve vysoce namáhaných výrobních podmínkách.

Přísný výrobní proces: Výrobní proces podstavců z taveného oxidu křemičitého přísně dodržuje vysoké standardy kvality. Výrobní proces využívá procesy tváření a svařování za tepla, které jsou obvykle dokončeny v prostředí čistého prostoru třídy 10 000. Poté je podstavec z taveného křemenného skla důkladně vyčištěn ultračistou vodou (18 MΩ), aby byla zajištěna čistota produktu a optimální výkon. Každý hotový výrobek je přísně kontrolován, čištěn a balen v čistém prostoru třídy 1000 nebo vyšší, aby splňoval vysoké standardy polovodičového průmyslu.

Materiál křemičitého křemičitého s vysokou čistotou

Veteksemi Ald fúzovaný křemenný podstavec používá materiál s vysokou čistotou neprůhledný křemen pro efektivní izolaci tepla a světla. Jeho vynikající vlastnosti stínění tepla a stínění světla mu umožňují udržovat jednotné rozdělení teploty v procesní komoře a zajistit uniformitu a konzistenci tenkéDepozice filmuna povrchu plátku.

Aplikační pole

Podstavce z taveného křemene jsou díky svému vynikajícímu výkonu široce používány v mnoha oblastech polovodičového průmyslu. Vproces depozice atomové vrstvy (ALD)., podporuje přesnou kontrolu růstu filmu a zajišťuje pokrok polovodičových součástek. VProces nízkotlaké chemické depozice par (LPCVD), tepelná stabilita a schopnost stínění světla vysoce čistého křemenného podstavce poskytují záruky pro rovnoměrné nanášení tenkých vrstev, čímž se zlepšuje výkon a výtěžnost zařízení.

Kromě toho v procesu difúzních plátků zajišťuje odolnost proti vysokým teplotám a chemická odolnost podstavce Fused Quartz Pedestal spolehlivost a konzistenci procesu dotování polovodičového materiálu. Tyto klíčové procesy určují elektrický výkon polovodičových součástek a vysoce kvalitní materiály Fused Quartz hrají nepostradatelnou roli při dosahování nejlepších výsledků těchto procesů.

Vetek Semiconductor ALD Fused Quartz podstavec: