Vysoko-čistotní křemíkový karbid destička vetek Semiconductor je vyrobena z extrémně čistého materiálu karbidu křemíku s vynikající tepelnou stabilitou, mechanickou pevností a chemickou odolností. Loď o destičce křemíkového karbidu silikonu se používá v aplikacích s horkou zónou ve výrobě polovodičů, zejména v prostředí s vysokou teplotou, a hraje důležitou roli při ochraně oplatků, přepravu materiálů a udržování stabilních procesů. Vetnek Semiconductor bude i nadále tvrdě pracovat na inovování a zlepšení výkonu lodi s vysoce čistým karbidem karbidovým karbidem, aby vyhovoval vyvíjejícím se potřebám výroby polovodičů. Těšíme se, až se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.
Jako profesionální výrobce by vám vetek Semiconductor chtěl poskytnout vysoce kvalitní člun z karbidu křemíku.
Vynikající tepelný výkon: Vysoký křemíkový karbidový karbid ve Vetek Semiconductor má vynikající tepelný výkon, jsou stabilní v prostředí s vysokou teplotou a mají vynikající tepelnou vodivost, což jim umožňuje pracovat při teplotách daleko nad okolním okolím. Díky tomu je vysoce čistý křemíkový karbidovou destičku ideální pro vysoce výkonné a vysokoteplotní vytrvalostní aplikace.
Vynikající odolnost proti korozi: Loď o destičce křemíkového karbidu s vysokým obsahem čistoty je klíčovým nástrojem pro výrobu polovodičů a má silnou odolnost vůči různým korozivním látkám. Jako spolehlivý nosič vydrží účinky vysoké teploty a koroze v chemickém prostředí a zajišťuje bezpečné a efektivní zpracování destiček křemíkových karbidů. Jako spolehlivý nosič vydrží účinky vysoké teploty a koroze v chemickém prostředí a zajišťuje bezpečné a efektivní zpracování destiček křemíkových karbidů.
Rozměrová integrita: Loď o destičce silikonu s vysokým obsahem čistoty se během procesu slinování nezmenšuje, udržuje rozměrovou integritu a eliminuje zbytková napětí, která by mohla způsobit, že díly deformace nebo prasknutí. To umožňuje výrobu komplexních dílů s přesnými rozměry. Ať už při výrobě polovodičových zařízení nebo jiných průmyslových oborů, vysoce čistý křemíkový karbid destička poskytuje spolehlivou rozměrovou kontrolu, aby se zajistilo, že díly splňují specifikace.
Jako všestranný nástroj lze na oplatku ve vysoké čistotě vetetek polovodičové aplikovat na různé technologie výroby polovodičů, včetně růstu epitaxiálních a chemických depozice páry. Jeho odolná konstrukce a nereaktivní povaha způsobují, že vysoce čistý křemíkový karbid destička je vhodná pro řadu chemií zpracování, což zajišťuje, že se může hladce přizpůsobit různým zpracovatelským prostředím.
Při výrobě polovodičů jsou epitaxiální růst a chemické depozice par běžnými procesními kroky používanými k růstu vysoce kvalitních destiček a tenkých filmů. Vysoce čisté SIC lodi hraje důležitou roli jako nosič, který dokáže odolávat vlivu vysokých teplot a chemikálií, aby zajistil přesný růst a depoziční procesy.
Kromě odolného designu není vysoce čistý SIC loď také reaktivní. To znamená, že nebude nepříznivě reagovat se zpracováním chemikálií, čímž se zachová integritu a výkon lodi. To poskytuje výrobcům polovodičů spolehlivý nástroj k zajištění konzistence a opakovatelnosti ve výrobním procesu.
Fyzikální vlastnosti rekrystalizovaného karbidu křemíku
Fyzikální vlastnosti rekrystalizovaného karbidu křemíku
Vlastnictví
Typická hodnota
Pracovní teplota (° C)
1600 ° C (s kyslíkem), 1700 ° C (redukční prostředí)
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
Používáme cookies, abychom vám nabídli lepší zážitek z prohlížení, analyzovali návštěvnost webu a přizpůsobili obsah. Používáním tohoto webu souhlasíte s naším používáním souborů cookie. Zásady ochrany osobních údajů