Vetetek Semiconductor High Pure Silicon Carbide Wafer nosič jsou důležitými součástmi ve zpracování polovodičů, které jsou navrženy tak, aby bezpečně držely a přepravovaly jemné křemíkové oplatky, a hrají klíčovou roli ve všech fázích výroby. Vysoký nosič oplatky ve Vetneku Semiconductor je pečlivě navržen a vyroben, aby byl zajištěn vynikající výkon a spolehlivost. Vetek Semiconductor se zavazuje poskytovat kvalitní produkty za konkurenceschopné ceny a těšíme se, že budeme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.
Vetek Semiconductor je profesionální vůdce China High Pure Pure Silicon Carbide Wafer Carrier výrobce s vysokou kvalitou a přiměřenou cenou. Vítejte a kontaktujte nás.
Vetetek Semiconductor's High Pure Silicon Carbide Wafer Nosič je nosič navržený pro více oplatků, aby maximalizoval účinnost prostoru v procesní komoře. Tyto nosiče oplatky na karbidu s vysokým obsahem čistoty jsou obvykle pravoúhlé nebo válcové a každý nosič má přesné sloty nebo drážky, které jsou od sebe odděleny, aby pevně držely jednu oplatku ve svislé poloze. Vysoký čistý nosič destičky karbidu křemíku má vynikající odolnost vůči vysokým teplotám, korozivním chemikáliím a mechanickému stresu, což z nich činí ideální pro ochranu oplatků před možným poškozením. Jsou vyráběny z vysoce čistého křemíkového karbidu (SIC), aby zajistily integritu a bezpečnost oplatků během zpracování.
Vysoce čisté nosiče destiček karbidu křemíku hrají zásadní roli ve složitých procesech, jako je difúze, RTP a tepelná pole, sloužící jako stabilní nosič pro oplatky, aby se dosáhlo bezproblémového přenosu mezi různým zařízením a stádii. Jeho vertikální struktura minimalizuje podlahový prostor v procesní komoře, optimalizuje propustnost výroby a může efektivně zvládnout velké dávky oplatků. Vysoké čisté nosiče destiček karbidu křemíku jsou známé svou vynikající odolností vůči vysokým teplotám, korozi a mechanické pevnosti, aby chránily oplatky před možným poškozením.
High Pure Pure Chech-Silicon Carbide Wafer nosič s vysokým obsahem čistého křemíkového karbidu je vyroben z vysoce čistého křemíkového karbidu (SIC) a má vynikající odolnost proti vysoké teplotě, odolnost proti chemické korozi a mechanickou pevnost pro ochranu integrity oplatků v tvrdém prostředí. Jeho pečlivě navržená struktura a přesně zpracované sloty zajišťují, že oplatky jsou pevně umístěny tak, aby vyhovovaly potřebám vysoce přesného zpracování.
Vetek Semiconductor se zavazuje poskytovat zákazníkům vysoce kvalitní produkty a spolehlivou technickou podporu. Ať už v růstu, difúzi, depozice tenkého filmu nebo jiných kritických procesů, může v růstu veteku Semiconductor vysoký čistý nosič karbidu křemíku hrát důležitou roli při zajišťování stability a konzistence výrobního procesu. Těšíme se, až se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.
Parametr produktu vysoce čistého nosiče karbidu křemíku
Fyzikální vlastnosti rekrystalizovaného karbidu křemíku
Vlastnictví
Typická hodnota
Pracovní teplota (° C)
1600 ° C (s kyslíkem), 1700 ° C (redukční prostředí)
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
Používáme cookies, abychom vám nabídli lepší zážitek z prohlížení, analyzovali návštěvnost webu a přizpůsobili obsah. Používáním tohoto webu souhlasíte s naším používáním souborů cookie. Zásady ochrany osobních údajů