ALD SUPERIOR

Jako profesionálALD SUPERIORvýrobce v Číně, náš produktALD SUPERIORPřesná kontrola teploty, jednotná distribuce plynu a vynikající tepelná vodivost a další charakteristiky produktů určujíALD SUPERIORhraje klíčovou roli v procesu depozice atomové vrstvy (ALD). Důležitá role, vítejte svou konzultaci.

Jednotné depozice tenkého filmu: ALD Susceptor zajišťuje rovnoměrné ukládání atomových vrstev na celý povrch oplatky během procesu depozice atomové vrstvy (ALD). Jeho jedinečný rotující design umožňuje plyny a reaktanty rovnoměrně kontaktovat povrch oplatky, což vede k jednotné tloušťce filmu. To je rozhodující pro vysoce přesné polovodičové výroby.

Zlepšit kvalitu depozice: Optimalizací kontroly teploty a distribuce plynu, Susceptor ALD významně zlepšuje kvalitu a výkonnost filmu, snižuje defekty a nejednotnost. Díky tomu je ideální pro vysoce přesné výrobu polovodičů a elektronických zařízení, což zajišťuje spolehlivost a výkon produktu.

Podporuje zpracování více vozidel: Některé konstrukce ALD Susceptor umožňují zpracování více oplatků současně, což zvyšuje účinnost výroby. To je zvláště důležité pro vysoce výkonné výrobní prostředí, které je schopno uspokojit potřeby rozsáhlé výroby.

Ubytuje různé velikosti a typy oplatků: ALD Susceptory jsou obecně navrženy pro vysokou kompatibilitu a mohou podporovat různé velikosti a typy oplatků. Díky tomu je efektivní v různých výrobních procesech a poskytuje větší flexibilitu a přizpůsobivost.

Snížit výrobní náklady: Vzhledem ke své efektivní distribuci plynu a jednotným možnostem vytápění zvyšuje susceptor ALD účinnost procesu depozice, čímž snižuje náklady na materiál a výrobu. To pomáhá nejen zlepšit efektivitu výroby, ale také výrazně snižuje výrobní náklady.

Základní fyzikální vlastnosti CVD SIC povlaku:

Produkční obchody:

Přehled průmyslového řetězce polovodičového čipu：