Povlak z karbidu tantalu

Potahový kryt karbidu Tantalum se skládá z grafitového a tac povlaku. Vetek Semiconductor je předním dodavatelem a výrobcem krytu tantalum karbidového krytu v Číně. Zaměřujeme se na poskytování vysoce čistých, vysokoteplotních odolných produktů Tantalum Carbide. Náš kryt potaženého karbidem Tantalum má vynikající výkon a spolehlivost a může účinně chránit materiály v extrémně vysoké teplotě a korozivním prostředí. Těšíme se, až se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně. Vítejte na konzultaci kdykoli.

VETEK Semiconductor's TAC Coated Deflector kroužek je vysoce specializovaná složka určená pro procesy růstu krystalů SIC. Potahování TAC poskytuje vynikající odolnost proti vysoké teplotě a chemickou setrvačnost, aby se vyrovnal s vysokými teplotami a korozivním prostředím během procesu růstu krystalů. Tím je zajištěno stabilní výkon a dlouhou životnost složky, což snižuje frekvenci náhrady a prostoje. Zavázali jsme se poskytovat kvalitní produkty za konkurenceschopné ceny a těšíme se na to, že jsme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.

Trubice potažená karbidem Tantalum pro růst krystalů se používá hlavně v procesu růstu krystalů SIC. Vetek Semiconductor dodává trubici potaženou karbidem tantalu pro růst krystalů po mnoho let a pracuje v oblasti TAC povlaku po mnoho let. Naše výrobky mají vysokou odolnost proti čistotě a vysoké teplotě. Těšíme se, až se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně. Neváhejte a zeptejte se nás.

VeTek Semiconductor je přední výrobce a technologický inovátor kroužku s povlakem TaC pro epitaxní reaktor SiC v Číně se zaměřením na poskytování vysoce výkonných řešení pro epitaxní reaktory SiC. Máme dlouholeté zkušenosti s technologií povlakování TaC. TaC Coated Ring má vlastnosti vysoké čistoty, vysoké stability, vynikající odolnosti proti korozi atd., a může poskytovat dlouhodobě stabilní výkon v drsném pracovním prostředí epitaxních reaktorů. Těšíme se, že s vámi navážeme dlouhodobé strategické partnerství.

VeTek Semiconductor je předním dodavatelem půlmoonových dílů potažených karbidem tantalu pro LPE v Číně se zaměřením na technologii povlakování TaC již mnoho let. Náš díl Halfmoon potažený karbidem tantalu pro LPE je navržen pro proces epitaxe v kapalné fázi a vydrží vysoké teploty přes 2000 stupňů Celsia. Díky vynikajícímu materiálovému výkonu a inovacím procesů je životnost našich produktů na špičkové úrovni v oboru. VeTek Semiconductor se těší, že bude vaším dlouhodobým partnerem v Číně.

TAC potažený vodicí kroužek je vyroben z vysoce kvalitního grafitového a tac povlaku. Při přípravě SIC krystalů pomocí metody PVT se vetek Semiconductor's TAC potahovaný vodicí kroužek používá hlavně k vedení a řízení proudu vzduchu, optimalizujte proces růstu jednoho krystalu a zlepšení výtěžku s jedním krystalem. Díky vynikající technologii povlaku TAC mají naše výrobky vynikající odolnost proti vysoké teplotě, odolnost proti korozi a dobré mechanické vlastnosti.