Povlak z karbidu tantalu

VeTek semiconductor je předním výrobcem povlakových materiálů z karbidu tantalu pro polovodičový průmysl. Mezi naše hlavní produktové nabídky patří CVD povlakové díly z karbidu tantalu, slinuté povlakové díly TaC pro růst krystalů SiC nebo proces epitaxe polovodičů. VeTek Semiconductor prošel ISO9001 a má dobrou kontrolu kvality. VeTek Semiconductor se zaměřuje na to, aby se stal inovátorem v průmyslu povlakování karbidu tantalu prostřednictvím pokračujícího výzkumu a vývoje iterativních technologií.

Hlavními produkty jsouVodicí kroužek potažený TaC, Třílistý vodicí kroužek potažený CVD TaC, Halfmoon potažený karbidem tantalu TaC, Planetární epitaxní susceptor SiC povlak CVD TaC, Povlakový kroužek z karbidu tantalu, Porézní grafit potažený karbidem tantalu, Rotační susceptor povlaku TaC, Kroužek z karbidu tantalu, TaC povlaková rotační deska, Susceptor destičky potažený TaC, Deflektorový kroužek potažený TaC, Kryt povlaku CVD TaC, Sklíčidlo potažené TaCatd., čistota je nižší než 5 ppm, může splnit požadavky zákazníka.

TaC povlakový grafit vzniká potažením povrchu vysoce čistého grafitového substrátu jemnou vrstvou karbidu tantalu patentovaným procesem chemického nanášení z plynné fáze (CVD). Výhoda je znázorněna na obrázku níže:

Excellent properties of TaC coating graphite

Povlak z karbidu tantalu (TaC) si získal pozornost díky svému vysokému bodu tání až 3880 °C, vynikající mechanické pevnosti, tvrdosti a odolnosti vůči tepelným šokům, což z něj činí atraktivní alternativu k procesům epitaxe sloučenin polovodičů s vyššími teplotními požadavky, jako je Aixtron MOCVD systém a LPE SiC epitaxní proces. Má také široké uplatnění v PVT metodě SiC procesu růstu krystalů.

Klíčové vlastnosti:

●Teplotní stabilita

●Ultra vysoká čistota

●Odolnost vůči H2, NH3, SiH4, Si

●Odolnost vůči tepelným zásobám

●Silná přilnavost ke grafitu

●Konformní pokrytí povlakem

● Velikost do průměru 750 mm (jediný výrobce v Číně dosahuje této velikosti)

Aplikace:

●Nosič oplatek

● Indukční topný susceptor

● Odporové topné těleso

●Satelitní disk

●Sprchová hlavice

●Vodící kroužek

●LED Epi přijímač

●Vstřikovací tryska

●Maskovací kroužek

● Tepelný štít

Povlak karbidu tantalu (TaC) na mikroskopickém průřezu:

the microscopic cross-section of Tantalum carbide (TaC) coating

Parametr povlaku VeTek Semiconductor Tantal Carbide Coating:

Fyzikální vlastnosti povlaku TaC
Hustota	14,3 (g/cm³)
Specifická emisivita	0.3
Koeficient tepelné roztažnosti	6.3 10^-6/K
Tvrdost (HK)	2000 HK
Odpor	1×10^-5Ohm*cm
Tepelná stabilita	<2500 ℃
Velikost grafitu se mění	-10~-20um
Tloušťka povlaku	≥20um typická hodnota (35um±10um)

Data EDX povlaku TaC：

EDX data of TaC coating

Data krystalové struktury povlaku TaC:

Živel	Atomové procento
	Pt. 1	Pt. 2	Pt. 3	Průměrný
C K	52.10	57.41	52.37	53.96
M	47.90	42.59	47.63	46.04

TaC Coating Chuck Planetární disk s povlakem TaC
Deska potažená TaC TaC povlaková rotační deska Přijímač povlaku TaC CVD TaC povlak Kryt CVD TaC povlakovací kroužek TaC povlaková deska

View as

TAC potažený vodicí kroužek

TAC potažený vodicí kroužek je vyroben z vysoce kvalitního grafitového a tac povlaku. Při přípravě SIC krystalů pomocí metody PVT se vetek Semiconductor's TAC potahovaný vodicí kroužek používá hlavně k vedení a řízení proudu vzduchu, optimalizujte proces růstu jednoho krystalu a zlepšení výtěžku s jedním krystalem. Díky vynikající technologii povlaku TAC mají naše výrobky vynikající odolnost proti vysoké teplotě, odolnost proti korozi a dobré mechanické vlastnosti.

Ukázat více >> Odeslat dotaz >>

Planetární rotační disk potažený karbidem tantalu

Vetek Semiconductor je předním výrobcem a dodavatelem planetárního rotace potaženého karbidem Tantalum v Číně, který se po mnoho let zaměřuje na technologii povlaku TAC. Naše výrobky mají vysokou čistotu a vynikající odolnost proti vysoké teplotě, které jsou široce uznávány výrobci polovodičů. Vetetek Semiconductor Tantalum Carbide Copeated Planetary Rotation Disk se stal páteří průmyslu destičky. Těšíme se na vytvoření dlouhodobého partnerství s vámi na společném podpoře technologického pokroku a optimalizace produkce.

Ukázat více >> Odeslat dotaz >>

Nosič grafitových plátků potažený TaC

VeTek Semiconductor pro zákazníky pečlivě navrhl nosič grafitových destiček s povlakem TaC. Skládá se z vysoce čistého grafitu a povlaku TaC, který je vhodný pro různé epitaxní zpracování waferů. Již mnoho let se specializujeme na povlakování SiC a TaC. Ve srovnání s povlakem SiC má náš nosič grafitových plátků s povlakem TaC vyšší teplotní odolnost a odolnost proti opotřebení. Těšíme se, že se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.

Ukázat více >> Odeslat dotaz >>

Jako profesionál Povlak z karbidu tantalu výrobce a dodavatel v Číně máme vlastní továrnu. Ať už potřebujete přizpůsobené služby pro uspokojení specifických potřeb vašeho regionu nebo chcete koupit pokročilé a odolné Povlak z karbidu tantalu vyrobené v Číně, můžete nám nechat zprávu.

QR kód

O nás

produkty

Kontaktujte nás

Telefon
+86-18069220752
Fax
+86-579-87223657
E-mailem
anny@veteksemi.com
Adresa
Wangda Road, Ziyang Street, Wuyi County, Jinhua City, zhejiang provincie, Čína

Webové menu

Vyhledávání produktů

Jazyk

Ukončit nabídku

Povlak z karbidu tantalu

Klíčové vlastnosti:

Aplikace:

Povlak karbidu tantalu (TaC) na mikroskopickém průřezu:

Parametr povlaku VeTek Semiconductor Tantal Carbide Coating:

Data EDX povlaku TaC：

Data krystalové struktury povlaku TaC:

TAC potažený vodicí kroužek

Planetární rotační disk potažený karbidem tantalu

Nosič grafitových plátků potažený TaC

Odeslat dotaz

QR kód

O nás

produkty

Kontaktujte nás

Telefon

Fax

E-mailem

Adresa