Povlak z karbidu tantalu

VeTek semiconductor je předním výrobcem povlakových materiálů z karbidu tantalu pro polovodičový průmysl. Mezi naše hlavní produktové nabídky patří CVD povlakové díly z karbidu tantalu, slinuté povlakové díly TaC pro růst krystalů SiC nebo proces epitaxe polovodičů. VeTek Semiconductor prošel ISO9001 a má dobrou kontrolu kvality. VeTek Semiconductor se zaměřuje na to, aby se stal inovátorem v průmyslu povlakování karbidu tantalu prostřednictvím pokračujícího výzkumu a vývoje iterativních technologií.

Hlavními produkty jsouVodicí kroužek potažený TaC, Třílistý vodicí kroužek potažený CVD TaC, Halfmoon potažený karbidem tantalu TaC, Planetární epitaxní susceptor SiC povlak CVD TaC, Povlakový kroužek z karbidu tantalu, Porézní grafit potažený karbidem tantalu, Rotační susceptor povlaku TaC, Kroužek z karbidu tantalu, TaC povlaková rotační deska, Susceptor destičky potažený TaC, Deflektorový kroužek potažený TaC, Kryt povlaku CVD TaC, Sklíčidlo potažené TaCatd., čistota je nižší než 5 ppm, může splnit požadavky zákazníka.

TaC povlakový grafit vzniká potažením povrchu vysoce čistého grafitového substrátu jemnou vrstvou karbidu tantalu patentovaným procesem chemického nanášení z plynné fáze (CVD). Výhoda je znázorněna na obrázku níže:

Excellent properties of TaC coating graphite

Povlak z karbidu tantalu (TaC) si získal pozornost díky svému vysokému bodu tání až 3880 °C, vynikající mechanické pevnosti, tvrdosti a odolnosti vůči tepelným šokům, což z něj činí atraktivní alternativu k procesům epitaxe sloučenin polovodičů s vyššími teplotními požadavky, jako je Aixtron MOCVD systém a LPE SiC epitaxní proces. Má také široké uplatnění v PVT metodě SiC procesu růstu krystalů.

Klíčové vlastnosti:

●Teplotní stabilita

●Ultra vysoká čistota

●Odolnost vůči H2, NH3, SiH4, Si

●Odolnost vůči tepelným zásobám

●Silná přilnavost ke grafitu

●Konformní pokrytí povlakem

● Velikost do průměru 750 mm (jediný výrobce v Číně dosahuje této velikosti)

Aplikace:

●Nosič oplatek

● Indukční topný susceptor

● Odporové topné těleso

●Satelitní disk

●Sprchová hlavice

●Vodící kroužek

●LED Epi přijímač

●Vstřikovací tryska

●Maskovací kroužek

● Tepelný štít

Povlak karbidu tantalu (TaC) na mikroskopickém průřezu:

the microscopic cross-section of Tantalum carbide (TaC) coating

Parametr povlaku VeTek Semiconductor Tantal Carbide Coating:

Fyzikální vlastnosti povlaku TaC
Hustota	14,3 (g/cm³)
Specifická emisivita	0.3
Koeficient tepelné roztažnosti	6.3 10^-6/K
Tvrdost (HK)	2000 HK
Odpor	1×10^-5Ohm*cm
Tepelná stabilita	<2500 ℃
Velikost grafitu se mění	-10~-20um
Tloušťka povlaku	≥20um typická hodnota (35um±10um)

Data EDX povlaku TaC：

EDX data of TaC coating

Data krystalové struktury povlaku TaC:

Živel	Atomové procento
	Pt. 1	Pt. 2	Pt. 3	Průměrný
C K	52.10	57.41	52.37	53.96
M	47.90	42.59	47.63	46.04

TaC Coating Chuck Planetární disk s povlakem TaC
Deska potažená TaC TaC povlaková rotační deska Přijímač povlaku TaC CVD TaC povlak Kryt CVD TaC povlakovací kroužek TaC povlaková deska

View as

Porézní grafit s tac potaženým

Porézní grafit s TAC Coated je pokročilý polovodičový zpracovatelský materiál poskytovaný vetek Semiconductor. Porézní grafit s TAC potaženým kombinuje výhody porézního grafitového a tantalum karbidu (TAC) s dobrou tepelnou vodivostí a propustností plynu. Vetek Semiconductor se zavazuje poskytovat kvalitní produkty za konkurenceschopné ceny.

Ukázat více >> Odeslat dotaz >>

Kryt povlaku tantalum

Potahový kryt karbidu Tantalum se skládá z grafitového a tac povlaku. Vetek Semiconductor je předním dodavatelem a výrobcem krytu tantalum karbidového krytu v Číně. Zaměřujeme se na poskytování vysoce čistých, vysokoteplotních odolných produktů Tantalum Carbide. Náš kryt potaženého karbidem Tantalum má vynikající výkon a spolehlivost a může účinně chránit materiály v extrémně vysoké teplotě a korozivním prostředí. Těšíme se, až se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně. Vítejte na konzultaci kdykoli.

Ukázat více >> Odeslat dotaz >>

TAC potažený deflektor kroužek

VETEK Semiconductor's TAC Coated Deflector kroužek je vysoce specializovaná složka určená pro procesy růstu krystalů SIC. Potahování TAC poskytuje vynikající odolnost proti vysoké teplotě a chemickou setrvačnost, aby se vyrovnal s vysokými teplotami a korozivním prostředím během procesu růstu krystalů. Tím je zajištěno stabilní výkon a dlouhou životnost složky, což snižuje frekvenci náhrady a prostoje. Zavázali jsme se poskytovat kvalitní produkty za konkurenceschopné ceny a těšíme se na to, že jsme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.

Ukázat více >> Odeslat dotaz >>

Trubice potažená karbidem tantalu pro růst krystalů

Trubice potažená karbidem Tantalum pro růst krystalů se používá hlavně v procesu růstu krystalů SIC. Vetek Semiconductor dodává trubici potaženou karbidem tantalu pro růst krystalů po mnoho let a pracuje v oblasti TAC povlaku po mnoho let. Naše výrobky mají vysokou odolnost proti čistotě a vysoké teplotě. Těšíme se, až se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně. Neváhejte a zeptejte se nás.

Ukázat více >> Odeslat dotaz >>

TAC potažený kroužek pro sic epitaxiální reaktor

VeTek Semiconductor je přední výrobce a technologický inovátor kroužku s povlakem TaC pro epitaxní reaktor SiC v Číně se zaměřením na poskytování vysoce výkonných řešení pro epitaxní reaktory SiC. Máme dlouholeté zkušenosti s technologií povlakování TaC. TaC Coated Ring má vlastnosti vysoké čistoty, vysoké stability, vynikající odolnosti proti korozi atd., a může poskytovat dlouhodobě stabilní výkon v drsném pracovním prostředí epitaxních reaktorů. Těšíme se, že s vámi navážeme dlouhodobé strategické partnerství.

Ukázat více >> Odeslat dotaz >>

Díl Halfmoon potažený karbidem tantalu pro LPE

VeTek Semiconductor je předním dodavatelem půlmoonových dílů potažených karbidem tantalu pro LPE v Číně se zaměřením na technologii povlakování TaC již mnoho let. Náš díl Halfmoon potažený karbidem tantalu pro LPE je navržen pro proces epitaxe v kapalné fázi a vydrží vysoké teploty přes 2000 stupňů Celsia. Díky vynikajícímu materiálovému výkonu a inovacím procesů je životnost našich produktů na špičkové úrovni v oboru. VeTek Semiconductor se těší, že bude vaším dlouhodobým partnerem v Číně.

Ukázat více >> Odeslat dotaz >>

Jako profesionál Povlak z karbidu tantalu výrobce a dodavatel v Číně máme vlastní továrnu. Ať už potřebujete přizpůsobené služby pro uspokojení specifických potřeb vašeho regionu nebo chcete koupit pokročilé a odolné Povlak z karbidu tantalu vyrobené v Číně, můžete nám nechat zprávu.

QR kód

O nás

produkty

Kontaktujte nás

Telefon
+86-18069220752
Fax
+86-579-87223657
E-mailem
anny@veteksemi.com
Adresa
Wangda Road, Ziyang Street, Wuyi County, Jinhua City, zhejiang provincie, Čína

Webové menu

Vyhledávání produktů

Jazyk

Ukončit nabídku

Povlak z karbidu tantalu

Klíčové vlastnosti:

Aplikace:

Povlak karbidu tantalu (TaC) na mikroskopickém průřezu:

Parametr povlaku VeTek Semiconductor Tantal Carbide Coating:

Data EDX povlaku TaC：

Data krystalové struktury povlaku TaC:

Porézní grafit s tac potaženým

Kryt povlaku tantalum

TAC potažený deflektor kroužek

Trubice potažená karbidem tantalu pro růst krystalů

TAC potažený kroužek pro sic epitaxiální reaktor

Díl Halfmoon potažený karbidem tantalu pro LPE

Odeslat dotaz

QR kód

O nás

produkty

Kontaktujte nás

Telefon

Fax

E-mailem

Adresa