Polovodičová keramická tryska

Polovodičová keramická tryska hraje důležitou roli vHDP-CVD proces, sloužící k přesnému řízení průtoku plynu a zajištěnívysoce kvalitní depozice filmu. Sprej s keramickou tryskou je precizně navržen tak, aby zajistil konzistentní a kontrolovatelné průtoky plynu a minimalizoval možné turbulence, když plyn vstupuje do reakční komory.

Technické specifikace:

1. Materiální složení:

Pískovací tryska VeTeK Semiconductor Ceramic je obvykle vyrobena z polovodičové keramiky, jako je oxid hlinitý (Al2O3),křemíkový karbid (sic)nebo oxid zirkoničitý (Zro2), tyto materiály mají vynikající vlastnosti:

    • Vysoká tepelná stabilita (vydrží teploty nad 1000 ℃)

    • Odolnost vůči korozi reaktivními plyny používanými vProcesy CVD(jako je silane, amoniak)

    • Odolnost vůči kontinuální expozici v plazmě.

2. Strukturální design:

    • Velikost otvoru: Otvor polovodičové keramické trysky je vědecky navržen tak, aby umožnil přesnou kontrolu toku plynu, což zase ovlivňuje uniformitu a tloušťku filmu.

    • Úhly a geometrie: Přesně navrženo tak, aby zajistilo rovnoměrné rozdělení plynu přes substrát, minimalizující defekty v uložené vrstvě.

V polovodičovém průmyslu hrají polovodičové keramické tryskací trysky klíčovou roli především v procesu HDP-CVD. Používají se také k nanášení tenkých vrstev pro výrobu mikroelektroniky, zajišťující vysoce kvalitní povrchové povlaky, které jsou jednotné a bez nečistot.

Vetetek Semiconductor keramic tryzles Shops: