produkty

Jako profesionální výrobce, inovátor a vůdce susceptorových produktů TAC Coating v Číně. Susceptor rotace povlaku vetek Semiconductor TAC je obvykle instalován v chemické depozici párů (CVD) a molekulárního paprsku epitaxy (MBE) (MBE) pro podporu a otáčení oplatků, aby bylo zajištěno jednotné ukládání materiálu a účinnou reakci. Je to klíčová součást při zpracování polovodiče. Vítejte svou další konzultaci.

Vetek Semiconductor je profesionální výrobce a vůdce produktů CVD TAC Coating Crucible Crucible v Číně. CVD TAC Coating Crucible je založen na povlaku Tantalum Carbon (TAC). Potahování uhlíku Tantalum je rovnoměrně pokryto na povrchu kelímku prostřednictvím procesu chemické depozice páry (CVD), aby se zvýšila jeho odolnost proti teplu a odolnost proti korozi. Jedná se o materiálový nástroj speciálně používaný v extrémních prostředích s vysokou teplotou. Vítejte svou další konzultaci.

Vetek Semiconductor je profesionální výrobce a vůdce produktů držáku oplatky v Číně. Držák oplatky SiC je držákem oplatky pro proces epitaxy při zpracování polovodiče. Je to nenahraditelné zařízení, které stabilizuje oplatku a zajišťuje rovnoměrný růst epitaxiální vrstvy. Vítejte svou další konzultaci.

Jako profesionální výrobce produktů a továrny na výrobu výrobků a továrny na vodní destičky CVD v Číně je vetek Semiconductor CVD TAC Coating Coating nosič oplatky pro nošení oplatky speciálně navržený pro vysokou teplotu a korozivní prostředí ve výrobě polovodičů. a nosič Coatingového oplatky CVD má vysokou mechanickou pevnost, vynikající odolnost proti korozi a tepelnou stabilitu, což poskytuje nezbytnou záruku pro výrobu vysoce kvalitních polovodičových zařízení. Vaše další dotazy jsou vítány.

Vetek Semiconductor je profesionální výrobce držitele a továrny pro držitele oplatky EPI v Číně. Držák destičky EPI je držákem oplatky pro proces epitaxy při zpracování polovodiče. Je to klíčový nástroj pro stabilizaci oplatky a zajištění jednotného růstu epitaxiální vrstvy. Je široce používán v epitaxy zařízení, jako jsou MOCVD a LPCVD. Jedná se o nenahraditelné zařízení v procesu epitaxy. Vítejte svou další konzultaci.

Satelitní destička Vetek Semiconductor je nosič oplatky používaný v zařízení Aixtron, který se používá hlavně v procesech MOCVD a je zvláště vhodný pro vysokoteplotní a vysoce přesné polovodičové procesy. Nosič může poskytnout stabilní podporu oplatky a jednotné depozice filmu během epitaxiálního růstu MOCVD, což je nezbytné pro proces depozice vrstvy. Vítejte svou další konzultaci.