Webové menu

Vyhledávání produktů

Jazyk

produkty

Keramika z karbidu křemíku

VeTek Semiconductor je váš inovativní partner v oblasti zpracování polovodičů. S naším rozsáhlým portfoliem kombinací materiálů polovodičové keramiky z karbidu křemíku, možnostmi výroby součástí a službami aplikačního inženýrství vám můžeme pomoci překonat významné výzvy. Technická technická keramika z karbidu křemíku je široce používána v polovodičovém průmyslu díky jejich výjimečnému materiálovému výkonu. Vysoce čistá keramika z karbidu křemíku VeTek Semiconductor se často používá během celého cyklu výroby a zpracování polovodičů.


DIFUZE A ZPRACOVÁNÍ LPCVD

VeTek Semiconductor poskytuje keramické komponenty speciálně navržené pro dávkovou difúzi a požadavky LPCVD, včetně:

• Přepážky a držáky
• Vstřikovače
• Vložky a procesní trubky
• Konzolová pádla z karbidu křemíku
• Oplatkové čluny a podstavce


KOMPONENTY ETCH PROCESU

Minimalizujte kontaminaci a neplánovanou údržbu pomocí vysoce čistých komponent navržených pro náročné zpracování plazmového leptání, včetně:

Zaostřovací kroužky

Trysky

Štíty

Sprchové hlavice

Okna / víka

Další zakázkové komponenty


RYCHLÉ KOMPONENTY TEPELNÉHO ZPRACOVÁNÍ A EPITAXIÁLNÍHO PROCESU

VeTek Semiconductor poskytuje pokročilé materiálové komponenty přizpůsobené pro aplikace vysokoteplotního tepelného zpracování v polovodičovém průmyslu. Tyto aplikace zahrnují RTP, Epi procesy, difúzi, oxidaci a žíhání. Naše technická keramika je navržena tak, aby odolávala teplotním šokům a poskytovala spolehlivý a konzistentní výkon. S komponenty VeTek Semiconductor mohou výrobci polovodičů dosáhnout efektivního a vysoce kvalitního tepelného zpracování, což přispívá k celkovému úspěchu výroby polovodičů.

• Difuzory

• Izolátory

• Susceptory

• Další vlastní tepelné komponenty


Fyzikální vlastnosti rekrystalizovaného karbidu křemíku
Vlastnictví Typická hodnota
Pracovní teplota (°C) 1600 °C (s kyslíkem), 1700 °C (redukující prostředí)
Obsah SiC / SiC > 99,96 %
Obsah Si / Volný Si < 0,1 %
Objemová hmotnost 2,60-2,70 g/cm3
Zjevná pórovitost < 16 %
Pevnost v tlaku > 600 MPa
Pevnost v ohybu za studena 80-90 MPa (20 °C)
Pevnost v ohybu za tepla 90-100 MPa (1400 °C)
Tepelná roztažnost @1500°C 4,70 ± 10-6/°C
Tepelná vodivost @1200°C 23  W/m•K
Modul pružnosti 240 GPa
Odolnost proti tepelným šokům Mimořádně dobré


View as  
 
SiC oplatkový člun

SiC oplatkový člun

SIC destička se používá k přepravě oplatky, hlavně pro proces oxidace a difúze, aby se zajistilo, že teplota může být rovnoměrně distribuována na povrchu oplatky. Stabilita s vysokou teplotou a vysoká tepelná vodivost materiálů SIC zajišťují efektivní a spolehlivé zpracování polovodičů. Vetek Semiconductor se zavazuje poskytovat kvalitní produkty za konkurenceschopné ceny.
Ukázat více >> Odeslat dotaz >>
Procesní trubice SiC

Procesní trubice SiC

VeTek Semiconductor poskytuje vysoce výkonné procesní trubice SiC pro výrobu polovodičů. Naše procesní trubky SiC vynikají v oxidačních a difúzních procesech. Díky vynikající kvalitě a řemeslnému zpracování nabízejí tyto elektronky stabilitu při vysokých teplotách a tepelnou vodivost pro efektivní zpracování polovodičů. Nabízíme konkurenceschopné ceny a snažíme se být vaším dlouhodobým partnerem v Číně.
Ukázat více >> Odeslat dotaz >>
SIC Pádlo

SIC Pádlo

Konzolové pádlo SiC společnosti VeTek Semiconductor se používá v pecích pro tepelné zpracování pro manipulaci a podpírání člunů s plátkem. Vysoká teplotní stabilita a vysoká tepelná vodivost SiC materiálu zajišťuje vysokou účinnost a spolehlivost v procesu zpracování polovodičů. Jsme odhodláni poskytovat vysoce kvalitní produkty za konkurenceschopné ceny a těšíme se, že se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.
Ukázat více >> Odeslat dotaz >>
Člun z karbidu křemíku pro horizontální pec

Člun z karbidu křemíku pro horizontální pec

Loď SiC wafer má vysoké požadavky na čistotu materiálu.Vetek Semiconductor dodává tomuto produktu čistotu SiC ＞99,96% rekrystalizovaného SiC.VeTek Semiconductor je profesionální výrobce a dodavatel v Číně pro křemíkovou karbidu waferovou loď pro horizontální pec, s dlouholetými zkušenostmi v oblasti výzkumu a vývoje a výroba, může dobře kontrolovat kvalitu a nabízet konkurenceschopnou cenu. Můžete si být jisti, že si u nás koupíte člun na oplatky z karbidu křemíku pro horizontální pec.
Ukázat více >> Odeslat dotaz >>
Člun z karbidu křemíku potažený SiC

Člun z karbidu křemíku potažený SiC

SIC potažený křemíkový karbidový karbid loď je navržen se 165 sloty pro přepravu oplatky. cena. Vítejte pro návštěvu naší továrny a další diskusi o spolupráci.
Ukázat více >> Odeslat dotaz >>
Pádlo z křemíkového karbidu

Pádlo z křemíkového karbidu

Pázový pádlo vetek Semiconductor's Silicon Carbide je důležitou součástí výrobního procesu polovodiče, zejména vhodné pro difúzní pece nebo pece LPCVD ve vysokoteplotních procesech, jako je difúze a RTP. Naše pádlo na křemíkovou karbidu je pečlivě navrženo a vyrobeno s vynikající vysokoteplotní odolností a mechanickou pevností a může bezpečně a spolehlivě transportovat oplatky do procesní trubice za drsných procesních podmínek pro různé procesy s vysokou teplotou, jako je difúze a RTP. Těšíme se, až se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.
Ukázat více >> Odeslat dotaz >>
Jako profesionál Keramika z karbidu křemíku výrobce a dodavatel v Číně máme vlastní továrnu. Ať už potřebujete přizpůsobené služby pro uspokojení specifických potřeb vašeho regionu nebo chcete koupit pokročilé a odolné Keramika z karbidu křemíku vyrobené v Číně, můžete nám nechat zprávu.
Doporučení pro novinky
Tři technologie růstu SIC Single Crystals
Tři technologie růstu SIC Single CrystalsUkázat více >>
Průzkumná aplikace technologie 3D tisku v polovodičovém průmyslu
Průzkumná aplikace technologie 3D tisku v polovodičovém průmysluUkázat více >>
Jak si potahování SIC zlepšuje oxidační odolnost uhlíku？
Jak si potahování SIC zlepšuje oxidační odolnost uhlíku？Ukázat více >>
Porézní karbid tantalu: Nová generace materiálů pro růst krystalů SiC
Porézní karbid tantalu: Nová generace materiálů pro růst krystalů SiCUkázat více >>
Tantalum Carbide Technology Průlom, SIC epitaxiální znečištění se snížilo o 75%?
Tantalum Carbide Technology Průlom, SIC epitaxiální znečištění se snížilo o 75%?Ukázat více >>
Jak tenký může proces Taiko vyrobit křemíkové oplatky?
Jak tenký může proces Taiko vyrobit křemíkové oplatky?Ukázat více >>
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept