produkty

Tepelné pole monokrystalové křemíkové pece používá jako kelímku grafit a používá topení, vodicí kroužek, držák a držák hrnce vyrobené z isostatického lisovaného grafitu, aby zajistila sílu a čistotu grafitového kelímku. Vetek Semiconductor produkuje kelímek pro monokrystalický křemík, dlouhý život, vysokou čistotu, vítejte a konzultujte nás.

Vetek Semiconductor se zaměřuje na výzkum a vývoj a industrializaci CVD SiC Coating a CVD TAC povlaku. Jako příklad, který je příklad, je produkt vysoce zpracován s vysokou přesností, hustým CVD sic povlakem, vysokou teplotní odolností a silnou odolností proti korozi. Váš dotaz na nás je vítán.

Blok CVD SiC pro růst krystalů SIC, je nový suroviny s vysokou čistotou vyvinuté společností Vetek Semiconductor. Má vysoký poměr vstupního výstupu a může růst vysoce kvalitních silikonových karbidových mono krystalů, což je materiál druhé generace, který nahradí prášek používaný na dnešní trhu. Vítejte v diskusi o technických problémech.

Ultra vysoký křemíkový karbid karbidu (SIC) vetek semiconductor vytvořený chemickou depozicí par (CVD) se doporučuje použít jako zdrojový materiál pro pěstování krystalů karbidu křemíku fyzikálním transportem páry (PVT). V nových technologiích růstu krystalů SiC je zdrojový materiál naložen do kelímku a sublimovaný na krystalu semen. Použijte bloky CVD-SIC s vysokou čistotou jako zdroj pro pěstování krystalů SIC. Vítejte a vytvořit s námi partnerství.

Vetek Semiconductor je přední výrobce sprchových hlav CVD a inovátor v Číně. Po mnoho let jsme se specializovali na materiál SIC.CVD SIC Sprchová hlava je vybírána jako zaostřovací prstencový materiál díky své vynikající termochemické stabilitě, vysoké mechanické pevnosti a odporu vůči plazmatické erozi. Těšíme se, až se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.

Vetek Semiconductor je přední výrobce sic sprchové hlavy a inovátor v Číně. Po mnoho let jsme se specializovali na materiál SIC. Sprchová hlava SiC je vybírána jako zaostřovací prstencový materiál díky své vynikající termochemické stabilitě, vysoké mechanické síle a odporu vůči erozi plazmy.