Křemenná distribuční deska

Destičky pro distribuci plynu křemene, známé také jako křemenné sprchovky, jsou kritickými součástmi polovodičových výroby. Tyto destičky využívají výjimečnou čistotu, vysokoteplotní odolnost a odolnost proti korozi a zajišťují rovnoměrný a stabilní tok procesů na povrch oplatky. Tato přesná dodávka je nezbytná pro udržení kvality a uniformity uložených filmů nebo leptaných funkcí.

Klíčové rysy vysoce čistého fúzovaného křemene

● Materiál: 99,99%vysoce čistého fúzovaného křemene

● Odolnost proti vysoké teplotě: Odolává teplotám nad 1000 ℃

● Odolnost proti korozi: Vynikající trvanlivost proti procesním plynům a prostředí plazmy

● Precizní tok plynu: Jednotné rozdělení mikro-děr pro optimální dodávku plynu a depozice uniformity

● Přizpůsobitelný design: Velikost, vzor díry a montážní funkce lze přizpůsobit pro konkrétní modely zařízení

Základní role ve výrobě polovodičů

1. Fyzikální depozice par (PVD) a depozice chemických par (CVD)

Role: V procesech PVD a CVD na distribuci plynu přesně řídí reaktivní plyny (např. Silane, amoniak, kyslík) nebo prekurzory na oplatku, aby vytvořila požadovaný tenký film.

Konkrétní použití:

● Ovládání uniformity: Přesně konstruované mikromany destičky zajišťují, že tok plynu a koncentrace jsou rovnoměrně na celém povrchu oplatky. To je nezbytné pro ukládání filmů s konzistentní tloušťkou a výkonem.

● Prevence kontaminace: Vysoká čistota křemene zabraňuje reagování destičky s procesními plyny nebo uvolňování nečistot. To udržuje čistotu filmu a zabraňuje vadám na povrchu oplatky.

2. Chemická depozice páry vylepšená v plazmě (PECVD)

Role: V PECVD, sprchová hlavička křemene přináší nejen reaktivní plyny, ale také funguje jako elektroda pro generování plazmy.

Konkrétní použití:

● Zapalování plazmy: Sprchová hlavička je obvykle spojena se zdrojem energie s radiofrekvencí (RF) pro generování plazmy. Vysokoenergetické částice v plazmě podporují rozklad plynných reakčních složek, což umožňuje ukládání filmu při nižších teplotách.

● Tepelná stabilita: Křemen vykazuje vynikající tepelnou stabilitu, což jí umožňuje odolat plazmatickému prostředí vysoké teploty. To pomáhá udržovat rovnoměrnou teplotu v procesní komoře a dále zajišťuje kvalitu filmu a konzistenci.

3. Suché leptání

Role: Při suchém leptání zavádí destička pro distribuci plynu reaktivní leptací plyny (např. Fluorokarbony, chlor) do leptané komory.

Konkrétní použití:

● Uniformita leptání: Deska zajišťuje rovnoměrný průtok a koncentraci plynů leptání, které zaručuje konzistentní hloubku a profil leptání v celé oplatce. To je zásadní pro dosažení přesných vzorců potřebných pro pokročilé polovodičové zařízení.

● Odolnost proti korozi: Silné korozivní vlastnosti plynných plynů vyžadují odolný materiál. Quartzova odolnost proti korozi prodlužuje životnost sprchové hlavy a snižuje riziko přerušení procesu.

4. Čištění oplatky

Role: Ve specifických procesech čištění oplatky se k dispozici k dodávání čisticích plynů (např. Ozonu, amoniaku) na povrch oplatky se odstraní zbytky nebo kontaminanty.

Konkrétní použití:

● Konzistentní čištění: Deska zajišťuje, že čisticí plyny dosáhnou každé části oplatky, což umožňuje důkladný a jednotný proces čištění.

● Chemická kompatibilita: Kompatibilita Quartzu s širokou škálou čisticích chemikálií zabraňuje reakcím a udržuje čistotu a účinnost procesu čištění.