produkty

Porézní grafit s vysokou čistotou poskytovaný vetekem Semiconductor je pokročilý polovodičový zpracovatelský materiál. Je vyroben z vysoce čistého uhlíkového materiálu s vynikající tepelnou vodivostí, dobrou chemickou stabilitou a vynikající mechanickou pevností. Tento porézní grafit s vysokou čistotou hraje důležitou roli v procesu růstu monokrystalů SiC. Vetek Semiconductor se zavazuje poskytovat kvalitní produkty za konkurenceschopné ceny a těší se, že se stane vaším dlouhodobým partnerem v Číně.

VeteKsemicon's SIC Coated MOCVD Susceptor je zařízení s vynikajícím procesem, trvanlivostí a spolehlivostí. Vydrží vysokou teplotu a chemické prostředí, udržují stabilní výkon a dlouhou životnost, čímž se snižují frekvenci nahrazení a údržby a zlepšují efektivitu výroby. Náš epitaxiální susceptor MOCVD je proslulý svou vysokou hustotou, vynikající rovinností a vynikajícím tepelným ovládáním, což z něj činí preferované vybavení v drsném výrobním prostředí. Těšíme se na spolupráci s vámi.

Porézní grafit s TAC Coated je pokročilý polovodičový zpracovatelský materiál poskytovaný vetek Semiconductor. Porézní grafit s TAC potaženým kombinuje výhody porézního grafitového a tantalum karbidu (TAC) s dobrou tepelnou vodivostí a propustností plynu. Vetek Semiconductor se zavazuje poskytovat kvalitní produkty za konkurenceschopné ceny.

Potahový kryt karbidu Tantalum se skládá z grafitového a tac povlaku. Vetek Semiconductor je předním dodavatelem a výrobcem krytu tantalum karbidového krytu v Číně. Zaměřujeme se na poskytování vysoce čistých, vysokoteplotních odolných produktů Tantalum Carbide. Náš kryt potaženého karbidem Tantalum má vynikající výkon a spolehlivost a může účinně chránit materiály v extrémně vysoké teplotě a korozivním prostředí. Těšíme se, až se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně. Vítejte na konzultaci kdykoli.

VETEK Semiconductor's TAC Coated Deflector kroužek je vysoce specializovaná složka určená pro procesy růstu krystalů SIC. Potahování TAC poskytuje vynikající odolnost proti vysoké teplotě a chemickou setrvačnost, aby se vyrovnal s vysokými teplotami a korozivním prostředím během procesu růstu krystalů. Tím je zajištěno stabilní výkon a dlouhou životnost složky, což snižuje frekvenci náhrady a prostoje. Zavázali jsme se poskytovat kvalitní produkty za konkurenceschopné ceny a těšíme se na to, že jsme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.

Trubice potažená karbidem Tantalum pro růst krystalů se používá hlavně v procesu růstu krystalů SIC. Vetek Semiconductor dodává trubici potaženou karbidem tantalu pro růst krystalů po mnoho let a pracuje v oblasti TAC povlaku po mnoho let. Naše výrobky mají vysokou odolnost proti čistotě a vysoké teplotě. Těšíme se, až se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně. Neváhejte a zeptejte se nás.