produkty

TAC Coating se v současné době používá hlavně v procesech, jako je křemíkový karbid s jednorázovým krystalem (metoda PVT), epitaxiální disk (včetně epitaxy karbidu křemíku, LED epitaxy) atd. V kombinaci s dobrou dlouhodobou stabilitou TAC Coatingové destičky se stal teační deskou TAC. Těšíme se, až se stanete naším dlouhodobým partnerem.

Jako jádro spotřební ve výrobním procesu polovodiče hraje porézní grafit nenahraditelnou roli ve více vazbách, jako je růst krystalů, doping a žíhání. Jako profesionální výrobce porézního grafitu se vetek Semiconductor zavázal poskytovat vysoce kvalitní porézní grafitové produkty za konkurenceschopné ceny, vítejte další dotaz.

Gan na Sic Epi Susceptor hraje zásadní roli při zpracování polovodičů prostřednictvím své vynikající tepelné vodivosti, schopnosti zpracování s vysokou teplotou a chemickou stabilitou a zajišťuje vysokou účinnost a kvalitu materiálu procesu růstu GAN. Vetek Semiconductor je čínským profesionálním výrobcem GAN na Sic Epi Susceptor, upřímně se těšíme na vaši další konzultaci.

CVD TAC Coating nosič je navržen hlavně pro epitaxiální proces výroby polovodičů. Ultra vysoký bod tání CVD TAC TAC Coating, vynikající odolnost proti korozi a vynikající tepelná stabilita určují nezbytnost tohoto produktu v polovodičovém epitaxiálním procesu. Vítejte své další dotaz.

Vetekova CVD SIC Coating Baffle se používá hlavně v SI Epitaxy. Obvykle se používá s prodlužovacími sudy křemíku. Kombinuje jedinečnou vysokou teplotu a stabilitu CVD SIC Coating Baffle, což výrazně zlepšuje rovnoměrné rozdělení proudění vzduchu při výrobě polovodičů. Věříme, že naše výrobky vám mohou přinést pokročilé technologie a vysoce kvalitní řešení produktů.

CVD CVD Sic Graphite ve Vetek Semiconductor je klíčový v polovodičovém vybavení a slouží jako ochranný štít v reaktorech pro ochranu vnitřních komponent v nastavení vysoké teploty a tlaku. Efektivně chrání proti chemikáliím a extrémnímu teplu, zachovává integritu zařízení. S výjimečným opotřebením a odolností proti korozi zajišťuje dlouhověkost a stabilitu v náročném prostředí. Využití těchto obalů zvyšuje výkon zařízení polovodičového zařízení, prodlužuje životnost a zmírňuje požadavky na údržbu a rizika poškození.