Vetek Semiconductor je předním domácím výrobcem a dodavatelem CVD SIC Focus Rings, věnovaných poskytování vysoce výkonných a vysoce reliabilitních produktů pro polovodičové průmysl. CVD SIC Focus veteK Semiconductor používá technologii pokročilých chemických depozice párů (CVD), má vynikající odolnost proti vysoké teplotě, odolnost proti korozi a tepelnou vodivost a jsou široce používány v polovodičových litografických procesech. Vaše dotazy jsou vždy vítány.
Jako základ moderních elektronických zařízení a informačních technologií se polovodičová technologie stala nezbytnou součástí dnešní společnosti. Od chytrých telefonů po počítače, komunikační vybavení, lékařské vybavení a solární články se téměř všechny moderní technologie spoléhají na výrobu a aplikaci polovodičových zařízení.
Vzhledem k tomu, že požadavky na funkční integraci a výkon elektronických zařízení se stále zvyšují, technologie procesu polovodičů se také neustále vyvíjí a zlepšuje. Jako základní spojení v polovodičové technologii, proces leptání přímo určuje strukturu a vlastnosti zařízení.
Proces leptání se používá k přesnému odstranění nebo úpravě materiálu na povrchu polovodiče za vzniku požadované struktury a obvodu. Tyto struktury určují výkon a funkčnost polovodičových zařízení. Proces leptání je schopen dosáhnout přesnosti úrovně nanometrů, což je základ pro výrobu vysoce výkonných integrovaných obvodů s vysokou hustotou (ICS).
CVD SIC Focus Ring je jádro složkou v suchém leptání, která se používá hlavně k zaostření plazmy, aby měla vyšší hustotu a energii na povrchu oplatky. Má funkci rovnoměrného rozložení plynu. Vetek Semiconductor roste sic vrstvu po vrstvě prostřednictvím procesu CVD a nakonec získá CVD SiC Focus kroužek. Připravený kruh zaostření CVD sic může dokonale splňovat požadavky procesu leptání.
CVD SIC Focus Ring je vynikající v mechanických vlastnostech, chemických vlastnostech, tepelné vodivosti, odolnosti proti vysoké teplotě, odolnost proti leptání iontů atd.
● Vysoká hustota snižuje objem leptání
● Vysoká pásmová mezera a vynikající izolace
● Vysoká tepelná vodivost, koeficient s nízkým rozšiřováním a odolnost proti tepelnému šoku
● Vysoká pružnost a dobrá odolnost proti mechanickému nárazu
● Vysoká tvrdost, odolnost proti opotřebení a odolnost proti korozi
Vetek Semiconductor má v Číně přední možnosti zpracování kruhu CVD SiC Focus. Mezitím nám VETEK Semiconductor's Collery Technical Team and Sales Team pomáhá poskytovat zákazníkům nejvhodnější výrobky pro zaostření. Výběr polovodiče vetek znamená partnerství se společností odhodlanou posouvat hraniceCVD křemíkový karbid inovace.
Se silným důrazem na kvalitu, výkon a spokojenost zákazníků dodáváme produkty, které nejen splňují, ale překračují přísné požadavky polovodičového průmyslu. Pomůžeme vám dosáhnout vyšší účinnosti, spolehlivosti a úspěchu ve vašich operacích s našimi pokročilými řešeními křemíkového karbidu CVD.
SEM data filmu CVD sic
Základní fyzikální vlastnosti CVD SIC povlaku
Základní fyzikální vlastnosti CVD SIC povlaku
Vlastnictví
Typická hodnota
Krystalová struktura
Polykrystalická fáze FCC β, hlavně (111) orientovaná
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
Používáme cookies, abychom vám nabídli lepší zážitek z prohlížení, analyzovali návštěvnost webu a přizpůsobili obsah. Používáním tohoto webu souhlasíte s naším používáním souborů cookie. Zásady ochrany osobních údajů