SIC potažený nosič destiček pro leptání

Základní aplikace nosiče destiček potažených SIC pro proces leptání

1. Růst filmu a leptání filmu GAN ve výrobě LED

SIC potažené nosiče (jako je nosič leptání PSS) se používají k podpoře safírových substrátů (vzorovaný safírový substrát, PSS) při produkci LED a provádění chemických depozice párů (MOCVD) filmů gallia (GAN) při vysokých teplotách. Nosič je poté odstraněn mokrým leptacím procesem za vzniku povrchové mikrostruktury pro zlepšení účinnosti extrakce světla.

Klíčová role: Nosič oplatky musí odolat teplotám až do 1600 ° C a chemickou korozi v prostředí leptání v plazmě. Vysoká čistota (99,99995%) a hustota povlaku SIC zabraňují kontaminaci kovů a zajišťují uniformitu filmu GAN.

2. Proces polovodičového/suchého leptání polovodiče

VLeptání ICP (indukčně vázaná plazma), Nosiče potažených SIC dosahují jednotného rozdělení tepla pomocí optimalizovaného návrhu proudění vzduchu (jako je režim laminárního toku), zabrání difúzi nečistot a zlepšuje přesnost leptání. Například, veteteksemicon's sic potažený Etching nosič SIC potažený SIC vydrží sublimační teplotu 2700 ° C a je vhodný pro prostředí s vysokou energií v plazmě.

3. výroba solárních článků a zařízení

SIC nosiče dobře fungují při vysokoteplotní difúzi a leptání křemíkových destiček ve fotovoltaickém poli. Jejich koeficient nízké tepelné roztažnosti (4,5 x 10⁻⁶/k) snižuje deformaci způsobenou tepelným napětím a prodlužuje životnost.

Fyzikální vlastnosti a výhody nosiče destiček potažených SIC pro leptání

1. tolerance vůči extrémním prostředí:

Stabilita s vysokou teplotou:CVD SIC povlakmůže pracovat ve vzduchu ve vzduchu 1600 ° C nebo 2200 ° C vakuové prostředí po dlouhou dobu, což je mnohem vyšší než tradiční křemen nebo grafitové nosiče.

Odolnost proti korozi: SIC má vynikající odolnost vůči kyselinám, alkalisům, somům a organickými rozpouštědly a je vhodná pro polovodičové produkční linie s častým chemickým čištěním.

2. Tepelné a mechanické vlastnosti:

Vysoká tepelná vodivost (300 W/MK): Rychlý rozptyl tepla snižuje tepelné gradienty, zajišťuje uniformitu teploty v destičce a zabrání odchylce tloušťky filmu.

Vysoká mechanická pevnost: Pevnost ohybu dosahuje 415 MPa (teplota místnosti) a při vysoké teplotě stále udržuje více než 90% pevnost, což zabrání praskání nebo delaminaci nosiče.

Povrchová povrchová úprava: SSIC (tlakový slinný křemíkový karbid) má nízkou drsnost povrchu (<0,1 um), snižuje kontaminaci částic a zlepšuje výnos oplatky.

3. Optimalizace porovnávání materiálu:

Nízký rozdíl tepelné roztažnosti mezi grafitovým substrátem a sic povlakem: úpravou procesu povlaku (jako je například ukládání gradientu), napětí rozhraní je sníženo a potahování je zabráněno peelingem.

Vysoká čistota a nízké defekty: Proces CVD zajišťuje čistotu povlaku> 99,9999%a vyhýbá se kontaminaci citlivých procesů (jako je výroba SIC napájecího zařízení).

Pakc Fyzikální vlastnosti CVD SIC povlaku

CVD Sic Coating Film Krystalová struktura

Vet Sexemicon Shops