Polovodičový stupeň křemenný zvonek

Jarská nádoba polovodičové třídy je vyrobena z materiálu s vysokou čistotou křemene. Má vynikající tepelnou stabilitu a silnou odolnost proti korozi a používá se v mnoha oblastech. V polovodičovém průmyslu: Křemenná zvonová nádoba polovodičové třídy poskytuje kontrolované prostředí pro depozici tenkého filmu na oplatkách během chemické depozice páry (CVD). Křemenná zvonová nádoba polovodiče se také používá v procesech, které vyžadují vakuovou technologii, jako je výroba optických povlaků, kovových povlaků a dalších typů tenkých filmových materiálů. V mnoha fyzických a materiálních vědeckých experimentech, které vyžadují vysokou čistotu, vakuově upevněné prostředí, je také potřebná polovodičová křemenná nádoba.

Scénáře použití polovodiče:

Polysilicon je křemíkový materiál složený z mnoha malých zrn, který je široce používán v integrovaných obvodech, solárních článcích a dalších oborech. Chemická depozice z plynné fáze (CVD) je jednou z hlavních metod přípravy polykrystalického křemíku. Základním principem je, že křemíkový zdrojový plyn, jako je SiH4, se rozkládá při vysoké teplotě a ukládá se na substrát za vzniku polykrystalického křemíku：

SIHCL3 + H2 ⇒ SI + 3HCL

Za podmínek vysoké teploty a vakua byl zdroj křemíku přiváděn do chemické depozice par. Nakonec je získán polykrystalický křemík. Polovodičová křemenná zvonová nádoba je důležitou součástí polykrystalického křemíkového CVD reaktoru.

Polykrystalický křemíkový CVD reaktor

Při vysokoteplotní reakci CVD může křemenná zvonová nádoba polovodičové třídy poskytnout rovnoměrné tepelné prostředí. Vysoká teplotní odolnost materiálu High Purity Quartz (odolává teplotám až do cca 1100°C) mu umožňuje pracovat stabilně v CVD reakcích a zajistit rovnoměrné rozložení teploty v reakční oblasti. V procesu CVD existuje mnoho složek toxických plynů, jako je PH3 atd. Polovodičová křemenná zvonová nádoba může účinně izolovat chemické plyny v reakční komoře od vnějšího prostředí, aby se zabránilo úniku škodlivého plynu. Odolnost materiálu High Purity Quartz proti korozi také umožňuje jiným materiálům pracovat stabilně po dlouhou dobu během procesu CVD a snadno nepodléhají korozi nebo poškození.

Křemenná zvonová nádoba se používá ve spojení s trubicí pro konzervaci tepla křemene a svislou křemennou lodí a většinou se používá v epitaxiálním procesu produkce třídy integrovaných obvodů polovodičů. Epitaxiální pec obecně přijímá vertikální strukturu, s nádobou křemenného zvonu na vnější straně svislé křemenné lodi a trubicí pro konzervaci tepla křemene.

Další typická aplikace polovodičové křemenné zvonové nádoby v prostředí s vysokou teplotou: Zahřátí dávky ortodontických dílů na 704 °C během 1 sekundy v inertní atmosféře pro pájení natvrdo:

VeTek Semiconductor má vyspělý technický tým. Bez ohledu na to, jaký tvar nebo materiál vysoce čisté křemenné zvonové nádoby potřebujete, můžeme vám ji přizpůsobit.

VeteK Semiconductor Products Shops: