Grafitová rotující podpora

Susceptor oplatky je nutností pro proces epitaxiálního růstu. Během epitaxiálního růstu je substrát oplatky umístěn do susceptoru.Vetek Semiconductor s vysoce čistými grafitovými rotujícími susceptory se používá v zařízení pro zpracování materiálu ve vysokoteplotním a vysoce vakuovém prostředí. V epitaxiálním růstu nitridu gallia (MOCVD proces) hrají podpůrnou roli při rotaci substrátu. Rotující grafitový susceptor Vetek Semiconductor má následující výhody:

● Vysoká čistota: Obsah nečistoty v susceptorech s vysoce čistým grafitem je pod 5ppm. Tato úroveň grafitu čistoty se může vyhnout uvolňování nečistot při vysokých teplotách, aby byla zajištěna čistota procesu depozice. Proto není nutný žádný povlak, aby splňoval pracovní požadavky.

Grafit s vysokou čistotou

● Vynikající tepelné vlastnosti: Grafit s vysokou čistotou má vynikající tepelnou vodivost a jeho tepelná vodivost je mnohem vyšší než jiné materiály. Koeficient tepelné roztažnosti je malý a může udržovat stabilní výkon při prožívání změn teploty.

● Dobré mechanické vlastnosti: Grafit s vysokým zajištěním má dobrý odpor a houževnatost opotřebení, který může splňovat složité požadavky procesu CVD.

● Vynikající vodivost: Vodivost je stokrát vyšší než vodivost obecných nekovových minerálů.

● Chemická stabilita: Může odolat korozi z kyselin, alkaliků a organických rozpouštědel

Navíc, jako přední výrobce a dodavatel rotujícího susceptoru s vysokou čistotou v Číně, vetetek Semiconductor také poskytuje vysokou kvalituSIC potažený grafitový susceptor pro MOCVD, Sic potažený susceptor, Podpora grafitu potažená TACaMocvd Sic Coating Susceptor.Vetek Semiconductor se zavazuje poskytovat pokročilé technologické a produktové řešení pro polovodičový průmysl a také podporuje přizpůsobené služby. Upřímně se těšíme, až se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.

To polovodičGrafitové rotující prodejny Susceptor: