CVD SiC potažený RTP susceptor

Vlastnosti

• Tepelná stejnoměrnost – Vysoká tepelná difuzivita materiálu umožňuje rychlý, prostorově rovnoměrný přenos tepla a podporuje opakovatelné teplotní profily plátků.
• Vysoká úroveň čistoty – povlak CVD SiC dosahuje čistoty 99,99995 %, čímž účinně snižuje riziko kontaminace mobilními ionty a kovy v kritických krocích procesu.
• Chemická odolnost – Povlak vykazuje silnou odolnost vůči korozivním látkám, včetně plynů na bázi halogenů, za zvýšených teplot.l Prodloužené servisní intervaly – Zvýšená odolnost proti oxidaci a opotřebení se promítá do menšího počtu výměn a zkrácení prostojů nástrojů.
• Flexibilita designu – Rozměry a konfigurace lze přizpůsobit tak, aby odpovídaly konkrétní geometrii komory RTP a velikosti plátků.

Aplikace

• Rychlé tepelné zpracování (RTP)
• Rychlé tepelné žíhání (RTA)
• Aktivace dopantu Kroky oxidace a žíhání
• Výroba integrovaných obvodů (IC).
• Výroba silových zařízeníTech

Specifikace

Proč si vybrat VeTek Semiconductor?

· Vlastní proces povlakování CVD SiC vyvinutý speciálně pro požadavky polovodičové třídy.

· Integrované funkce pro čištění grafitu, přesné obrábění a kontrolu tloušťky povlaku.

· Osvědčená přilnavost povlaku a stejnoměrnost vrstvy v rámci sériové výroby.

· Technická podpora pro vlastní návrhy susceptorů kompatibilní s hlavními platformami nástrojů RTP.

· Přísná vstupní kontrola materiálu, průběžné monitorování a závěrečné kvalifikační zkoušky zajišťují konzistenci mezi šaržemi.