Pevná sic plynová sprchová hlava

Pevná sic plynová sprchová hlava

VeTek Semiconductor je integrovaná společnost zabývající se výzkumem, výrobou a prodejem. VeTek Semiconductor již mnoho let pracuje na epitaxi polovodičů, leptání a dalších výrobcích souvisejících s procesem, zejména CVD SiC povlak, CVD TaC povlak a CVD Solid SiC jsou naše vlajkové produkty.

VeTek Semiconductor Solid SiC plynová sprchová hlavice se běžně používá k rovnoměrné distribuci prekurzorových plynů na povrch substrátu během polovodičových CVD procesů. Použití materiálu CVD-SiC pro sprchové hlavice nabízí několik výhod. Jeho vysoká tepelná vodivost pomáhá odvádět teplo generované v procesu CVD a zajišťuje rovnoměrné rozložení teploty na substrátu. Chemická stabilita sprchové hlavice CVD sic jí navíc umožňuje odolat korozivním plynům a drsným prostředím, se kterými se běžně setkáváme v procesech CVD. 

Design CVD SiC sprchových hlavic lze přizpůsobit specifickým CVD systémům a procesním požadavkům. Obvykle se však skládají z desky nebo kotoučového tvaru s řadou přesně vyvrtaných otvorů nebo štěrbin. Vzor a geometrie otvorů jsou pečlivě navrženy tak, aby zajistily rovnoměrnou distribuci plynu a rychlost proudění po povrchu substrátu.

Fyzikální vlastnosti pevného SiC