produkty

VeTek Semiconductor poskytuje vysoce výkonné procesní trubice SiC pro výrobu polovodičů. Naše procesní trubky SiC vynikají v oxidačních a difúzních procesech. Díky vynikající kvalitě a řemeslnému zpracování nabízejí tyto elektronky stabilitu při vysokých teplotách a tepelnou vodivost pro efektivní zpracování polovodičů. Nabízíme konkurenceschopné ceny a snažíme se být vaším dlouhodobým partnerem v Číně.

Konzolové pádlo SiC společnosti VeTek Semiconductor se používá v pecích pro tepelné zpracování pro manipulaci a podpírání člunů s plátkem. Vysoká teplotní stabilita a vysoká tepelná vodivost SiC materiálu zajišťuje vysokou účinnost a spolehlivost v procesu zpracování polovodičů. Jsme odhodláni poskytovat vysoce kvalitní produkty za konkurenceschopné ceny a těšíme se, že se staneme vaším dlouhodobým partnerem v Číně.

ALD Proces, znamená proces epitaxy atomové vrstvy. Výrobci veteku Semiconductor a ALD vyvinuli a produkovali SIC potažené planetární susceptory ALD, které splňují vysoké požadavky procesu ALD, aby rovnoměrně distribuovaly proudění vzduchu přes substrát. Zároveň náš CVD SIC s vysokou čistotou zajišťuje čistotu v procesu. Vítejte a diskutujte o spolupráci s námi.

Grafitový susceptor potažený vetek Semiconductor používá metodu chemické depozice páry (CVD) k přípravě povlaku tantalum karbidu na povrchu grafitových částí. Tento proces je nejzřelejší a má nejlepší vlastnosti povlaku. Grafit Susceptor potažený TAC může prodloužit životnost grafitových komponent, inhibovat migraci grafitových nečistot a zajistit kvalitu epitaxy. Těšíme se na váš dotaz.

Vetnek Semiconductor poskytuje grafitový diskový susceptor řezání okrajů. Potahování SIC poskytuje vynikající tepelnou stabilitu, vynikající chemickou odolnost a zvýšenou uniformitu procesu, což zajišťuje optimální výkon a spolehlivost. Zažijte další úroveň účinnosti a přesnosti s vetekem Semiconductor's SiC-potaženým diskovým susceptorem.

Graphite Crucible je důležitou součástí monokrystalického tahajících kelímků v procesu dosažení monokrystalického křemíkového růstu ingotu. ve výkonu, kvalitě a nákladové efektivitě pro uspokojení vyvíjejících se potřeb odvětví.