Zprávy

Diamond, potenciální „konečný polovodič“ čtvrté generace, získává pozornost v polovodičových substrátech kvůli jeho výjimečné tvrdosti, tepelné vodivosti a elektrickým vlastnostem. I když jeho vysoké náklady a výrobní výzvy omezují jeho použití, CVD je preferovanou metodou. Navzdory dopingovým a velkým krystalovým výzvám je Diamond slibné.

SiC a GaN jsou širokopásmové polovodiče s výhodami oproti křemíku, jako je vyšší průrazné napětí, rychlejší spínací rychlosti a vynikající účinnost. SiC je lepší pro vysokonapěťové aplikace s vysokým výkonem díky vyšší tepelné vodivosti, zatímco GaN vyniká ve vysokofrekvenčních aplikacích díky své vynikající mobilitě elektronů.

Napařování elektronovým paprskem je vysoce účinná a široce používaná metoda potahování ve srovnání s odporovým ohřevem, který ohřívá odpařovací materiál elektronovým paprskem, což způsobuje jeho odpařování a kondenzaci do tenkého filmu.

Vakuový povlak zahrnuje odpařování filmového materiálu, přepravu vakua a růst tenkého filmu. Podle různých metod odpařování filmového materiálu a přepravních procesů lze vakuový povlak rozdělit do dvou kategorií: PVD a CVD.

Tento článek popisuje fyzikální parametry a charakteristiky produktu porézního grafitu Vetek Semiconductor, jakož i jeho specifické aplikace ve zpracování polovodičů.

Tento článek analyzuje charakteristiky produktu a aplikační scénáře povlaku karbidu tantalu a povlaku karbidu křemíku z více perspektiv.