Zprávy

Zprávy

Jsme rádi, že se s vámi můžeme podělit o výsledky naší práce, novinky ve společnosti a včas vám poskytneme informace o vývoji a podmínkách jmenování a odsunu personálu.
Je porézní grafit klíčem k rychlejšímu nabíjení baterií28 2025-08

Je porézní grafit klíčem k rychlejšímu nabíjení baterií

Všichni jsme cítili ten okamžik paniky. Vaše baterie telefonu je na 5%, máte minuty na ušetření a každá sekunda se cítí jako věčnost. Co když tajemství ukončení této úzkosti spočívá v úplně nové chemii, ale při reimaginingu základního materiálu v samotné baterii? Po dvě desetiletí v popředí technologie jsem viděl, jak trendy přicházejí a odcházejí. Ale bzučení kolem porézního grafitu se cítí jinak. Není to jen přírůstkový krok; Představuje zásadní posun v tom, jak přistupujeme k návrhu skladování energie.
Isotropní grafit vydrží extrémní teplo ve vysokoteplotních pecích14 2025-08

Isotropní grafit vydrží extrémní teplo ve vysokoteplotních pecích

Ve Vetneku jsme strávili desetiletí zdokonalováním našich izotropních grafitových řešení pro průmyslová odvětví, která vyžadují spolehlivost při stoupajících teplotách. Pojďme se ponořit, proč je tento materiál nejlepší volbou - a jak naše produkty překonávají konkurenci.
Stále se obáváte o výkon materiálu v prostředí s vysokou teplotou?31 2025-07

Stále se obáváte o výkon materiálu v prostředí s vysokou teplotou?

Poté, co jsem pracoval v polovodičovém průmyslu více než deset let, chápu z první ruky, jak může být náročný výběr materiálu ve vysokoteplotním a vysoce výkonném prostředí. Teprve když jsem se setkal s vetekovým sic blokem, konečně jsem našel skutečně spolehlivé řešení.
Veteteksemicon svítí na mezinárodní výstavě v Šanghaji v Šanghaji Semicon26 2025-03

Veteteksemicon svítí na mezinárodní výstavě v Šanghaji v Šanghaji Semicon

Veteksemicon svítí na 2025 v Šanghaji Semicon International Exhibition, což vede budoucnost polovodičového průmyslu s inovativními technologiemi
Výroba čipů: Depozice atomové vrstvy (ALD)16 2024-08

Výroba čipů: Depozice atomové vrstvy (ALD)

V průmyslu polovodičového výroby, jak se velikost zařízení stále zmenšuje, představovala technologie depozice tenkých filmových materiálů bezprecedentní výzvy. Depozice atomové vrstvy (ALD), jako technologie depozice tenkého filmu, která může dosáhnout přesné kontroly na atomové úrovni, se stala nezbytnou součástí výroby polovodičů. Cílem tohoto článku je zavést tok procesu a principy ALD, aby pomohl pochopit jeho důležitou roli při pokročilé výrobě čipů.
Co je proces epitaxe polovodiče?13 2024-08

Co je proces epitaxe polovodiče?

Ideální je stavět integrované obvody nebo polovodičová zařízení na dokonalé krystalické základní vrstvě. Proces epitaxe (epi) ve výrobě polovodičů má za cíl nanést jemnou monokrystalickou vrstvu, obvykle asi 0,5 až 20 mikronů, na monokrystalický substrát. Proces epitaxe je důležitým krokem při výrobě polovodičových součástek, zejména při výrobě křemíkových plátků.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept