ICP/PSS proces leptání

VeTek Semiconductor ICPPSS (Inductively Coupled Plasma Photoresist Stripping) Proces leptání Wafer Carrier je speciálně navržen tak, aby splňoval náročné požadavky na leptací procesy v polovodičovém průmyslu. Díky svým pokročilým funkcím zajišťuje optimální výkon, efektivitu a spolehlivost během celého procesu leptání.

Výhoda susveptorů procesu leptání VeTek Semiconductor ICP/PSS:

Vylepšená chemická kompatibilita: Nosič plátku je vyroben z materiálů, které vykazují vynikající chemickou kompatibilitu s chemickými postupy leptání. Tím je zajištěna kompatibilita se širokou škálou leptadel, odstraňovačů odolnosti a čisticích roztoků, čímž se minimalizuje riziko chemických reakcí nebo kontaminace.

Odolnost vůči vysokým teplotám: Nosič plátku je navržen tak, aby vydržel vysoké teploty, které se vyskytují během procesu leptání. Zachovává si strukturální integritu a mechanickou pevnost a zabraňuje deformaci nebo poškození i při extrémních tepelných podmínkách.

Vynikající stejnoměrnost leptání: Nosič se vyznačuje precizně navrženým designem, který podporuje rovnoměrnou distribuci leptadel a plynů po povrchu destičky. Výsledkem jsou konzistentní rychlosti leptání a vysoce kvalitní, jednotné vzory, které jsou nezbytné pro dosažení přesných a spolehlivých výsledků leptání.

Vynikající stabilita plátku: Nosič obsahuje bezpečný mechanismus přidržování plátku, který zajišťuje stabilní umístění a zabraňuje pohybu plátku nebo klouzání během procesu leptání. To zaručuje přesné a opakovatelné leptací vzory, minimalizující defekty a ztráty výnosu.

Kompatibilita s čistými prostory: Nosič plátků je navržen tak, aby splňoval přísné normy pro čisté prostory. Vyznačuje se nízkou tvorbou částic a vynikající čistotou, která zabraňuje jakékoli kontaminaci částicemi, která by mohla ohrozit kvalitu a výtěžnost procesu leptání. Nečistota je nižší než 5 ppm.

Robustní a odolná konstrukce: Nosič je vyroben z vysoce kvalitních materiálů známých svou odolností a dlouhou životností. Může odolat opakovanému použití a přísným čisticím procesům, aniž by došlo k ohrožení jeho výkonu nebo strukturální integrity.

Přizpůsobitelný design: Nabízíme přizpůsobitelné možnosti, které splňují specifické požadavky zákazníků. Nosič lze upravit tak, aby vyhovoval různým velikostem plátků, tloušťkám a specifikacím procesu, čímž je zajištěna kompatibilita s různými leptacími zařízeními a procesy.

Vyzkoušejte spolehlivost a výkon našeho nosiče ICP/PSS leptacího procesu Wafer Carrier, navrženého pro optimalizaci procesu leptání v polovodičovém průmyslu. Jeho zvýšená chemická kompatibilita, odolnost vůči vysokým teplotám, vynikající rovnoměrnost leptání, vynikající stabilita plátku, kompatibilita v čistých prostorách, robustní konstrukce a přizpůsobitelný design z něj činí ideální volbu pro vaše leptací aplikace.

PSS leptací deska ICP leptací deska ICP leptací susceptor