Zprávy

Zprávy

Jsme rádi, že se s vámi můžeme podělit o výsledky naší práce, novinky ve společnosti a včas vám poskytneme informace o vývoji a podmínkách jmenování a odsunu personálu.
Jaký je rozdíl mezi aplikacemi karbidu křemíku (SiC) a nitridu galia (GaN)? - VeTek Semiconductor10 2024-10

Jaký je rozdíl mezi aplikacemi karbidu křemíku (SiC) a nitridu galia (GaN)? - VeTek Semiconductor

SiC a GaN jsou širokopásmové polovodiče s výhodami oproti křemíku, jako je vyšší průrazné napětí, rychlejší spínací rychlosti a vynikající účinnost. SiC je lepší pro vysokonapěťové aplikace s vysokým výkonem díky vyšší tepelné vodivosti, zatímco GaN vyniká ve vysokofrekvenčních aplikacích díky své vynikající mobilitě elektronů.
Principy a technologie fyzikálního nanášení z plynné fáze (PVD) povlakování (2/2) - VeTek Semiconductor24 2024-09

Principy a technologie fyzikálního nanášení z plynné fáze (PVD) povlakování (2/2) - VeTek Semiconductor

Napařování elektronovým paprskem je vysoce účinná a široce používaná metoda potahování ve srovnání s odporovým ohřevem, který ohřívá odpařovací materiál elektronovým paprskem, což způsobuje jeho odpařování a kondenzaci do tenkého filmu.
Principy a technologie potahování depozice fyzických par (1/2) - Vetek Semiconductor24 2024-09

Principy a technologie potahování depozice fyzických par (1/2) - Vetek Semiconductor

Vakuový povlak zahrnuje odpařování filmového materiálu, přepravu vakua a růst tenkého filmu. Podle různých metod odpařování filmového materiálu a přepravních procesů lze vakuový povlak rozdělit do dvou kategorií: PVD a CVD.
Co je porézní grafit? - Vetek Semiconductor23 2024-09

Co je porézní grafit? - Vetek Semiconductor

Tento článek popisuje fyzikální parametry a charakteristiky produktu porézního grafitu Vetek Semiconductor, jakož i jeho specifické aplikace ve zpracování polovodičů.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept